[發明專利]防偽標簽及其生產方法

有效

• 申請號: 201380012081.0
• 申請日: 2013-02-18
• 公開（公告）號: CN104144796A
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發明（設計）人: S·博格施米勒;K·舒爾特-威金;S·諾埃特;B·特哈利
• 申請（專利權）人: 蒂薩斯克里博斯有限責任公司
• 主分類號: B42D15/00
• 分類號: B42D15/00
• 代理公司: 北京市嘉元知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11484
• 代理人: 張永新

1.一種具有至少一個金屬化層(2)的防偽載體(1)，在其中引入有至少一個光學可變元件(6)，并且所述至少一個光學可變元件(6)具有非獨立的壓花結構(A)，其特征在于：

所述至少一個光學可變元件(6)具有獨立的激光光刻結構(B)，該激光光刻結構具有小于20微米的分辨率。

2.如權利要求1所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述分辨率小于5微米。

3.如權利要求1或2所述的防偽載體(1)，其特征在于：所述將壓花結構(A)和所述激光光刻結構(B)引入到同一金屬化層(2)。

4.如權利要求1、2或3所述的防偽載體(1)，其特征在于：所述壓花結構(A)和所述激光光刻結構(B)至少在一些子區域重疊。

5.如權利要求1至4中至少一項所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述壓花結構(A)和所述激光光刻結構(B)彼此精確配合的布置。

6.如權利要求1至5中至少一項所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述激光光刻結構(B)至少在子區域(10)至少局部地脫金屬化。

7.如權利要求6所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述子區域(10)完全脫金屬化。

8.如權利要求6或7所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述子區域(10)作為光柵脫金屬化。

9.如權利要求8所述的防偽載體(1)，其特征在于，在子區域(10)中，所述脫金屬化的柵格化是逐漸增大的。

10.如前述權利要求中的至少一項所述的防偽載體(1)，其特征在于，所述光學可變元件(6)在子區域(10)中是透明的。

11.一種具有至少一個金屬化層(2)的防偽載體(1)的制造方法，其通過以下步驟制造

壓花加工一種非獨立的壓花結構(A)到所述金屬化層(2)內和借助于激光將獨立的激光光刻結構(B)光刻曝光到金屬化層(2)內，

以小于20微米的分辨率曝光所述光刻結構(B)，

由壓花結構(A)和所述光刻結構(B)一起形成所述至少一個光學可變元件(6)。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，非獨立的壓花結構(A)首先沿著所述載體(1)壓花到所述金屬化層(2)內，然后，獨立的激光光刻結構(B)曝光到所述金屬化層(2)內。

13.如權利要求11所述的方法，其特征在于，獨立的激光光刻結構(B)首先沿所述載體(1)曝光到金屬化層(2)內，隨后，非獨立的壓花結構(A)壓花到所述金屬化層(2)內。

14.如權利要求11、12或13中至少一項所述的方法，其特征在于，所述激光光刻結構(B)和所述壓花結構(A)彼此精確配合的引入到金屬化層(2)內。

15.如權利要求11至14中至少一項所述的方法，其特征在于，所述光刻結構(B)的子區域(11)脫金屬化到透明的程度，所述壓花結構(A)的子區域相對于所述透明子區域(10)布置，使它們通過透明子區域(10)閃光。

16.如權利要求11至15中至少一項所述的方法，其特征在于，所述載體(1)是在所述光學可變元件(6)之間分離的，并且將所述光學可變元件(6)應用到制品、特別是包裝上。

17.如權利要求16所述的方法，其特征在于，所述光學可變元件(6)設有透明子區域(11)，并且所述制品的表面標識透過所述透明子區域(10)閃光。