[發(fā)明專利]低熔點的電鍍鋁用鍍液的調(diào)制方法、電鍍鋁用鍍液、鋁箔的制造方法、以及降低電鍍鋁用鍍液的熔點的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380011635.5
• 申請日: 2013-02-27
• 公開（公告）號: CN104204308A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 岡本篤志;松田純一
• 申請（專利權(quán)）人: 日立金屬株式會社
• 主分類號: C25D3/44
• 分類號: C25D3/44;C25D1/04
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 王永紅

1.電鍍鋁用鍍液的調(diào)制方法，其為至少含有(1)二烷基砜、(2)鋁鹵化物、以及(3)含氮化合物的電鍍鋁用鍍液的調(diào)制方法，其特征在于，通過在調(diào)制鍍液之際的二烷基砜、鋁鹵化物、含氮化合物的配合比例相對于二烷基砜10摩爾，鋁鹵化物為3.5+n～4.2+n摩爾，含氮化合物為n摩爾(其中n為0.001～2.0摩爾)，以使鍍液的熔點在25℃以下。

2.權(quán)利要求1記載的電鍍鋁用鍍液的調(diào)制方法，其特征在于，二烷基砜為二甲基砜。

3.權(quán)利要求1記載的電鍍鋁用鍍液的調(diào)制方法，其特征在于，含氮化合物為從鹵化銨、伯胺的氯化氫鹽、仲胺的氯化氫鹽、叔胺的氯化氫鹽、通式:R¹R²R³R⁴N·X(R¹～R⁴為相同或者是相異的烷基，X表示相對于季胺陽離子的陰離子)表示的季胺鹽、含氮芳香族化合物組成的組中選擇的至少1種。

4.電鍍鋁用鍍液，其特征在于，其是通過權(quán)利要求1記載的調(diào)制方法所調(diào)制而成的。

5.鋁箔的制造方法，其特征在于，其通過使用權(quán)利要求4記載的電鍍鋁用鍍液的電解法在基材的表面形成鋁被膜后，將該被膜從基材剝離。

6.降低電鍍鋁用鍍液的熔點的方法，其特征在于，在調(diào)制至少含有(1)二烷基砜、(2)鋁鹵化物、以及(3)含氮化合物的電鍍鋁用鍍液之際的二烷基砜、鋁鹵化物、含氮化合物的配合比例，相對于二烷基砜10摩爾，鋁鹵化物為3.5+n～4.2+n摩爾，含氮化合物為n摩爾(其中n為0.001～2.0摩爾)。