[發明專利]壓制成形用玻璃材料、玻璃光學元件及它們的制造方法

有效

• 申請號: 201380011285.2
• 申請日: 2013-03-04
• 公開（公告）號: CN104136384B
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 佐藤浩一;古郡重明;藤原康裕
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: C03B11/00
• 分類號: C03B11/00;C03B40/02;C03C3/068;G02B1/02;G02B3/00
• 代理公司: 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙)11413
• 代理人: 袁波,劉繼富

1.一種壓制成形用玻璃材料的制造方法，該壓制成形用玻璃材料具有由光學玻璃構成的芯部、在壓制成形時與成形模成形面接觸的含碳膜、以及與該含碳膜相鄰的中間層，其中，

所述芯部由玻璃化轉變溫度為550℃以上且合計含有2陽離子％以上的Nb⁵⁺、Ti⁴⁺、W⁶⁺及Bi³⁺的氧化物玻璃構成，

該制造方法具有：在所述芯部上成膜中間層的中間層成膜工序、和作為與該中間層相鄰的層而成膜所述含碳膜的含碳膜成膜工序，

在該制造方法中，測定表面反射率R_(C)NH、R_(C)H、R_(S+C)NH、R_(S+C)H、R_NH，以R_(C)NH、R_(C)H、R_(S+C)NH、R_(S+C)H、R_NH滿足下述(1)～(4)的方式進行所述中間層成膜工序、所述含碳膜成膜工序：

R_(C)NH－R_(C)H＞0.20％…(1)

R_(C)NH－R_(S+C)NH≤0.30％…(2)

R_(S+C)NH－R_(S+C)H≤0.30％…(3)

(R_NH+1.05)％＜R_(S+C)H＜(R_NH+1.70)％…(4)

上述中，分別表示的是：

R_(C)NH：除所述中間層成膜工序之外制作的玻璃材料在未加熱狀態下在波長500nm的表面反射率(％)、

R_(C)H：除所述中間層成膜工序之外制作的玻璃材料在下述加熱條件下的加熱后在波長500nm的表面反射率(％)、

R_(S+C)NH：所述壓制成形用玻璃材料在未加熱狀態下在波長500nm的表面反射率(％)、

R_(S+C)H：所述壓制成形用玻璃材料在下述加熱條件下的加熱后在波長500nm的表面反射率(％)、

R_NH：芯部玻璃在未加熱狀態下在波長500nm的表面反射率(％)，

在加熱條件中，加熱溫度為所述芯部玻璃成為10^6.9dPa·s的粘度的溫度，加熱氣氛為100％氮氣氛，加熱時間為240秒。

2.根據權利要求1所述的壓制成形用玻璃材料的制造方法，其中，

作為所述中間層，形成氧化釔膜、氧化鈧膜或氮化硼膜。