[發明專利]具有改善的氧阻隔性質的食品容器及其制造方法

有效

• 申請號: 201380010654.6
• 申請日: 2013-02-28
• 公開（公告）號: CN104136345A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 李光烈;文明云;金成珍;宋恩景;趙京植;尹泰景
• 申請（專利權）人: CJ第一制糖株式會社;韓國科學技術研究院
• 主分類號: B65D81/24
• 分類號: B65D81/24;B65D25/24;C08J7/04;C23C16/44
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳;薛義丹

1.一種具有改善的氧阻隔性質的食品容器，包括：

容器，由塑料材料制成；

緩沖薄層，形成在容器的表面上，并且具有5nm至30nm的厚度；以及

氧阻隔薄層，形成在緩沖薄層上。

2.根據權利要求1所述的食品容器，其中，氧阻隔薄層的厚度為25nm至50nm。

3.根據權利要求1所述的食品容器，其中，對容器的表面執行等離子體預處理，以改善容器的表面和緩沖薄層之間的粘著力。

4.根據權利要求1所述的食品容器，其中，容器由聚丙烯(PP)形成。

5.根據權利要求1所述的食品容器，其中，緩沖薄層由六甲基二硅醚(HMDSO)或硅(Si)形成。

6.根據權利要求1所述的食品容器，其中，氧阻隔薄層由氧化硅形成。

7.根據權利要求1所述的食品容器，所述食品容器還包括形成在氧阻隔薄層上的功能薄層。

8.根據權利要求7所述的食品容器，其中，功能薄層由HMDSO或氟化金剛石類碳(F-DLC)形成。

9.一種具有氧阻隔性質的食品容器的制造方法，所述方法包括以下步驟：

(a)準備由塑料材料制成的容器；

(b)對容器的表面執行氧等離子體處理；

(c)在容器的表面上沉積具有5nm至30nm的厚度的緩沖薄層；以及

(d)在緩沖薄層上沉積氧阻隔薄層。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，氧阻隔薄層的厚度為25nm至50nm。

11.根據權利要求9所述的方法，其中，容器由PP形成。

12.根據權利要求9所述的方法，其中，通過等離子體化學氣相沉積來執行步驟(c)和(d)。

13.根據權利要求9所述的方法，其中，緩沖薄層由HMDSO或Si形成。

14.根據權利要求9所述的方法，其中，氧阻隔薄層由氧化硅形成。

15.根據權利要求9所述的方法，還包括在氧阻隔薄層上沉積功能薄層的步驟(e)。

16.根據權利要求15所述的方法，其中，功能薄層由HMDSO或F-DLC形成。