[發(fā)明專利]利用感興趣組織譜成像和跟蹤進行的自適應放射治療

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380010332.1
• 申請日: 2013-02-07
• 公開（公告）號: CN104135930B
• 公開（公告）日: 2018-03-30
• 發(fā)明（設計）人: R·曼茨克;C·O·斯基拉
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00;A61N5/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司72002
• 代理人: 王英,劉炳勝

1.一種放射治療裝置(100)，包括：

兆伏輻射源(108)和二維探測器陣列(110)，所述兆伏輻射源(108)發(fā)射穿過檢查區(qū)域(106)的輻射，所述二維探測器陣列探測由所述兆伏輻射源發(fā)射的穿過所述檢查區(qū)域的輻射；

千伏源(112)和二維能量分辨探測器陣列(114)，所述千伏源發(fā)射穿過檢查區(qū)域(106)的電離輻射，所述二維能量分辨探測器陣列探測穿過所述檢查區(qū)域的電離輻射；

感興趣組織跟蹤器(124)，其接收感興趣組織的第一圖像和所述感興趣組織的隨后采集的第二譜圖像，并且至少基于所述第一圖像和所述第二譜圖像來跟蹤所述感興趣組織的幾何結構和/或位置的改變，并生成指示所述改變的信號，

其中，隨后采集的所述第二譜圖像是基于第一譜信號和第二譜信號而被生成的，所述第一譜信號對應于所述二維能量分辨探測器陣列針對第一預定能量范圍的輸出，所述第二譜信號對應于所述二維能量分辨探測器陣列針對第二預定能量范圍的輸出，

其中，隨后采集的所述第二譜圖像視覺增強對應于所述第一譜信號或所述第二譜信號的被掃描結構，同時視覺抑制對應于所述第一譜信號或所述第二譜信號中的另一個的其他被掃描結構；以及

自適應規(guī)劃器(126)，其基于來自所述感興趣組織跟蹤器的指示所述改變的所述信號來更新放射治療處置規(guī)劃。

2.如權利要求1所述的放射治療裝置，其中，所述感興趣組織跟蹤器視覺呈現(xiàn)所述第一圖像與所述第二譜圖像的疊加，包括對應于所述感興趣組織的所述幾何結構和/或所述位置的所述改變的標識。

3.如權利要求1至2中的任一項所述的放射治療裝置，其中，自適應規(guī)劃器視覺呈現(xiàn)推薦的更新，并響應于接收到指示對所述推薦的更新的用戶確認的信號而利用所述推薦的更新來更新所述放射治療處置規(guī)劃。

4.如權利要求1至2中的任一項所述的放射治療裝置，其中，所述兆伏輻射源(108)被配置作為處置源，并且所述更新包括更新所述處置源(108)的位置或對象支撐體的位置中的至少一個，以重新聚焦從所述處置源(108)發(fā)射的處置束，使得所述處置束基本上僅被定位在所述感興趣組織處。

5.如權利要求1所述的放射治療裝置，其中，所述二維能量分辨探測器陣列包括至少一個基于閃爍體/光電二極管對(300、400)的探測器，所述探測器具有僅對應于所述第一預定能量范圍或所述第二預定能量范圍的譜靈敏度。

6.如權利要求1所述的放射治療裝置，其中，所述二維能量分辨探測器陣列包括至少一個直接轉換光子計數(shù)探測器和相對應的能量分辨電路(500)。

7.如權利要求1至2中的任一項所述的放射治療裝置，其中，所述第一預定能量范圍或所述第二預定能量范圍中的至少一個對應于感興趣的k邊能量。

8.如權利要求7所述的放射治療裝置，其中，所述感興趣的k邊能量對應于結合到患者的感興趣組織的納米粒子的k邊能量。

9.如權利要求1至2中的任一項所述的放射治療裝置，還包括：

控制臺(118)，其控制施予對比材料的注射器(120)。

10.如權利要求1至2中的任一項所述的放射治療裝置，

其中，所述兆伏輻射源(108)被配置作為處置源，并且所述第二譜圖像被用于確定所述處置源的至少一個操作參數(shù)。