[發明專利]親水性等離子體涂層

有效

• 申請號: 201380007855.0
• 申請日: 2013-02-01
• 公開（公告）號: CN104271261A
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 馬丁·哥爾勒;托馬斯·廓爾迪克
• 申請（專利權）人: 生物資源資本公司
• 主分類號: B05D7/00
• 分類號: B05D7/00;B05D3/14;B05D5/04;B05D3/04
• 代理公司: 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;劉華聯

1.一種具有由聚(甲基)丙烯酸制得的親水性表面涂層的聚合物工件，特別是根據權利要求5-18中任意一項所述的方法可獲得的聚合物工件，其特征在于，在涂有聚(甲基)丙烯酸、PAA的工件表面的水接觸角為2至小于10度。

2.根據權利要求1所述的聚合物工件，其為硅樹脂人工晶狀體。

3.根據權利要求1所述的聚合物工件，其為硅樹脂隱形眼鏡，PAA層具有5微米至40微米的平均厚度。

4.根據權利要求1所述的聚合物工件，其為聚(α-羥基羧酸)的多孔基體，PAA層具有5納米至40納米的平均厚度。

5.一種使聚合物工件表面親水化的方法，所述方法包括步驟：

(a)對工件表面進行預處理以便清洗和活化所述工件表面，和

(b)對預處理后的工件表面進行預涂層，以及

(c)對預涂層后的工件表面進行后續涂層，

其特征在于，

步驟(a)中的預處理發生在以惰性氣體為基礎形成的高頻氣體等離子體中；

根據步驟(b)的用聚(丙烯酸)進行的預涂層利用從氣體混合物產生的高頻氣體等離子體發生，其中所述氣體混合物由惰性氣體和第一氣體組成，所述第一氣體由生物相容的、可聚合的含羧基的單體組成；以及

根據步驟(c)的后續涂層利用實質上包含丙烯酸單體的第二氣體發生。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成所述第一氣體的單體選自(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酐。

7.根據權利要求5或6所述的方法，其特征在于，在步驟(a)中用于產生高頻等離子體的氣體中包含的第一氣體的分壓小于惰性氣體的分壓的1/10。

8.根據權利要求5-7中任意一項所述的方法，其特征在于，在步驟(b)中所用的氣體混合物中，所述第一氣體的分壓最小為所述惰性氣體的分壓的1/4且最大為所述惰性氣體的分壓的2倍。

9.根據權利要求5-8中任意一項所述的方法，其特征在于，在步驟(c)中所用的第二氣體中的惰性氣體的分壓小于丙烯酸單體形成的氣體的分壓的1/10。

10.根據權利要求5-9中任意一項所述的方法，其特征在于，所述惰性氣體由氬氣形成。

11.根據權利要求5-10中任意一項所述的方法，其特征在于，在步驟(b)中的涂層通過涂層厚度監測裝置被監測，并且當涂層厚度值達到時，所述涂層被終止。

12.根據權利要求5-11中任意一項所述的方法，其特征在于，在步驟(a)中用于高頻等離子體的惰性氣體的壓力為15-60mTorr(ca.2-8Pa)，并且在步驟(b)中用于高頻等離子體的第一氣體的壓力為30-90mTorr(ca.4-12Pa)。

13.根據權利要求5-12中任意一項所述的方法，其進一步包括緊隨步驟(b)的節流惰性氣體的供應并且供應第二氣體的步驟(cb)，并且步驟(c)中的第二氣體的壓力小于0.3mTorr(ca.40mPa)。

14.根據權利要求5-13中任意一項所述的方法，其進一步包括緊隨步驟(b)或者如果執行步驟(cb)，則緊隨步驟(cb)的切斷所述高頻等離子體、阻斷惰性氣體供應、供應所述第二氣體的步驟(bc)，其中步驟(c)中的第二氣體的壓力介于1.5和6Tirr之間(ca.0.13-0.8kPa)。

15.根據權利要求5-14中任意一項所述的方法，其進一步包括在步驟(c)之后的通過在親水性溶劑中沖洗涂層工件的方式從親水層中除去水溶性組分的步驟(d)。

16.根據權利要求15所述的方法，其特征在于，所述親水性溶劑為等滲鹽溶液或去除礦物質的水。

17.根據權利要求5-16中任意一項所述的方法，其特征在于，所述工件至少在其表面上主要地或基本上由硅樹脂、硅樹脂水凝膠或諸如PLA或PLGA的多孔生物可吸收聚合物組成。

18.根據權利要求17任意一項所述的方法，其特征在于，所述工件至少在其表面上主要地或基本上由聚(二甲基硅氧烷)組成。

19.根據權利要求18所述的方法，其包括在涂層之前使工件形成隱形眼鏡或人工晶狀體。