[發(fā)明專利]在MRI設(shè)備中使用的納米顆粒RF屏蔽在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380007719.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104094129A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·J·A·M·范赫爾沃特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R33/422 | 分類號(hào): | G01R33/422 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光穎;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | mri 設(shè)備 使用 納米 顆粒 rf 屏蔽 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在可操作的MR(磁共振)掃描器中使用的納米顆粒射頻(RF)屏蔽。
背景技術(shù)
在磁共振(MR)成像掃描器中,靜磁場(chǎng)(B0)用于對(duì)齊人體中的質(zhì)子。由梯度線圈創(chuàng)建的梯度磁場(chǎng)可以被疊加到靜磁場(chǎng),從而獲得的信號(hào)能夠與準(zhǔn)確的位置相關(guān)聯(lián)。通過(guò)使用對(duì)應(yīng)于高達(dá)若干kHz頻率f梯度的脈沖技術(shù)可以應(yīng)用梯度磁場(chǎng)。根據(jù)B0磁場(chǎng)強(qiáng)度和磁場(chǎng)強(qiáng)度B1,以通常在10MHz與100MHz之間的無(wú)線電波頻率fRF操作所謂的射頻(RF)線圈,以激勵(lì)人體中的質(zhì)子或其他原子核,所述人體中的質(zhì)子和其他原子核隨后發(fā)射RF磁共振信號(hào)。RF體線圈一般用于對(duì)在一個(gè)設(shè)備中的RF發(fā)射和磁共振信號(hào)接收進(jìn)行組合。至少出于預(yù)防RF體線圈中的信號(hào)噪聲的原因,最期望在10MHz與100MHz之間的射頻處由RF屏蔽將梯度線圈和RF體線圈解耦。而且,應(yīng)當(dāng)保持RF體線圈關(guān)于其相對(duì)于梯度線圈的的位置的靈敏度。作為目的,RF屏蔽理論上應(yīng)當(dāng)使射頻衰減,但是對(duì)梯度磁場(chǎng)的脈沖的頻率應(yīng)當(dāng)是透明的。
在一般的解決方案中,例如由銅包疊層制成的導(dǎo)電板配備有狹縫(slit),使得在銅屏蔽中能夠感應(yīng)渦電流。這些狹縫由電容器橋接,其阻抗在低頻處為高而在高頻處為低,從而對(duì)于梯度線圈的低頻不能夠感應(yīng)渦電流,但是對(duì)于RF體線圈的高頻能夠感應(yīng)渦電流。
在圖1中圖示的常規(guī)RF屏蔽中,提供某個(gè)厚度的導(dǎo)電層,在所述導(dǎo)電層中,RF場(chǎng)通過(guò)感應(yīng)生成渦電流,其導(dǎo)致指向與其成因相反方向的磁場(chǎng),由此衰減導(dǎo)電層內(nèi)部的RF場(chǎng)。對(duì)于低于由層材料的導(dǎo)電率確定的頻率f1的頻率,不發(fā)生磁場(chǎng)的屏蔽(圖1的區(qū)域A)。
甚至當(dāng)穿透深度小于層厚度時(shí),渦電流成因阻尼的縱向起始與頻率成比例,直到頻率f2,所述渦電流成因阻尼的縱向起始與衰減和未衰減RF能量的比率的對(duì)數(shù)成比例。在頻率f2處,穿透深度變得小于導(dǎo)致以指數(shù)方式增加阻尼的厚度(在對(duì)數(shù)標(biāo)度上)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,要求在梯度磁場(chǎng)的頻率處,屏蔽應(yīng)當(dāng)在圖1的阻尼曲線的區(qū)域A之內(nèi),并且對(duì)于RF頻率,屏蔽應(yīng)當(dāng)在區(qū)域C之內(nèi)。
換言之:f梯度≤f1并且fRF≥f2。不幸地,根據(jù)如下在各向同性的導(dǎo)體材料(如金屬)中f1和f2是相關(guān)的:
f1=(μ0·σ·d·w)-1,以及
f2=(μ0·μr·σ·d2)-1=(f1·w)/(μrrd)
其中,d指示導(dǎo)電材料的厚度,w指示RF屏蔽的最大尺寸,σ指示各向同性材料的導(dǎo)電率,μ0指示真空的導(dǎo)磁率,并且μr指示各向同性材料的相對(duì)導(dǎo)磁率。在MR成像掃描器應(yīng)用中,要求μr=1,以避免靜磁場(chǎng)B0的畸變,由此
f2/f1=w/d???(等式(I))
因?yàn)橛缮鲜龅腗R掃描器成像應(yīng)用要求預(yù)先確定比率f2/f1,固定由要被屏蔽的對(duì)象給出的尺寸w與導(dǎo)電材料的厚度d的比率。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供一種衰減射頻波的RF屏蔽,所述射頻波用于在MR成像掃描器的操作期間激勵(lì)人體中的質(zhì)子或原子核,并且同時(shí),對(duì)梯度磁場(chǎng)脈沖是透明的。在該應(yīng)用中使用的“透明”一詞應(yīng)當(dāng)被具體地理解為使得在能量方面由RF屏蔽使電磁場(chǎng)衰減小于6dB,優(yōu)選小于3dB。
在本發(fā)明的一個(gè)方面,由在磁共振(MR)成像掃描器中使用的射頻(RF)屏蔽實(shí)現(xiàn)該目的,所述射頻(RF)屏蔽包括載體和多個(gè)納米顆粒,其中,在操作狀態(tài)下,多個(gè)納米顆粒不可移動(dòng)地被連接到載體,并且沿著空間中的方向?qū)R,并且其中,多個(gè)納米顆粒在空間中的方向上具有各向異性導(dǎo)電率。
通過(guò)使用在至少一個(gè)方向上具有各向異性導(dǎo)電率的多個(gè)納米顆粒,針對(duì)RF屏蔽的布局給出更多設(shè)計(jì)自由度,因?yàn)榻?jīng)由:
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