[發(fā)明專利]具有空氣動力振蕩器的清潔裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380007652.1
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN104080385A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設計）人: J.F.蘇伊維;D.尤爾曼恩;G.庫伊曼
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A47L9/04
• 分類號: A47L9/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 景軍平;汪揚

1.一種用于清潔具有面紗(74)的地毯(70)的清潔裝置(1)，所述面紗(74)從大體平面的背襯(72)延伸過若干毫米的距離以限定地毯表面(76)，所述清潔裝置(1)包括：

振蕩器單元(30)，其包括：

振蕩器(32)；

振蕩空間(34)，其至少部分地由所述振蕩器限定或者容納所述振蕩器的至少部分，并且可通過射流開口(36)通達，外圍流體在所述振蕩器的操作期間經由所述射流開口(36)被交替地吸入所述振蕩空間中以及從所述振蕩空間排出；

噴嘴(10)，其包括

被構造成抵靠地毯支撐所述噴嘴的支撐結構(12)，其特征在于地毯表面穿透器(14)，所述地毯表面穿透器(14)限定所述射流開口并且從所述支撐結構(12)突出，以使得在其中所述支撐結構(12)抵靠地毯支撐的所述噴嘴的支撐狀態(tài)下，所述地毯表面穿透器(14)穿透所述地毯表面并且所述射流開口至少部分地布置在所述支撐結構(12)和所述地毯表面以下。

2.根據(jù)權利要求1所述的清潔裝置，其中，在所述噴嘴(10)抵靠地毯(70)的支撐狀態(tài)下，所述穿透器(14)穿透所述地毯表面(76)并且所述射流開口(36)基本上布置在所述地毯表面以下。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔裝置，其中，在所述噴嘴(10)抵靠地毯(70)的支撐狀態(tài)下，所述穿透器(14)穿透所述地毯表面(76)并且所述射流開口布置在所述地毯表面以下0.5到2mm之間。

4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的清潔裝置，其中所述支撐結構包括大體平面的外部支撐表面(12)以用于抵靠所述地毯表面(76)支撐所述噴嘴(10)，并且其中所述穿透器(14)的至少部分從所述外部支撐表面向外突出，以使得由所述穿透器限定的所述射流開口(36)至少部分地布置在所述支撐表面以外。

5.根據(jù)權利要求4所述的清潔裝置，其中所述穿透器(14)的至少部分從所述外部支撐表面(12)向外突出，以使得由所述穿透器限定的所述射流開口(36)基本上布置在所述支撐表面以外，特別地與其相距0.5-2mm范圍內的距離。

6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的清潔裝置，其中所述振蕩空間(34)限定射流通道(38)，所述射流開口(36)設置在所述射流通道(38)的末端處，并且

其中所述射流通道(38)在所述射流開口(36)處在射流方向(J)上向外延伸。

7.根據(jù)權利要求6所述的清潔裝置，其中在所述噴嘴(10)抵靠地毯(70)的支撐狀態(tài)下，所述射流方向(J)背離地毯的背襯(72)。

8.根據(jù)權利要求7所述的清潔裝置，其中在所述噴嘴(10)抵靠地毯的支撐狀態(tài)下，所述射流方向(J)包括與所述地毯的背襯(72)的15-45度范圍內的角度。

9.根據(jù)權利要求6所述的清潔裝置，其中所述射流通道(38)在所述射流開口(36)處由具有第一部段(18)和第二部段(20)的射流通道壁限定，

其中，在所述噴嘴(10)抵靠地毯(70)的支撐狀態(tài)下，所述第一部段(18)接近所述地毯的背襯(72)，而所述第二部段(20)遠離所述地毯的背襯，并且

其中所述第二部段(20)在所述射流方向(J)上延伸超過所述第一部段(18)。

10.根據(jù)權利要求9所述的清潔裝置，其中所述第二部段(20)延伸超過所述第一部段(18)0.5-5mm。

11.根據(jù)權利要求1至10中任一項所述的清潔裝置，其被構造成使得在操作期間可實現(xiàn)以下標準：

其中f是所述振蕩器(32)的頻率，d是所述射流開口(36)的特征尺寸，以及v是在流體從所述振蕩空間(34)排出時所述射流開口處的平均流體速度。

12.根據(jù)權利要求1至11中任一項所述的清潔裝置，進一步包括：

流體抽吸單元，其包括：

具有抽吸端(51)的污物排泄管(50)，所述抽吸端(51)在所述噴嘴(10)抵靠地毯(70)的支撐狀態(tài)下面向所述地毯；

流體流發(fā)生器(52)，其可操作地連接到所述污物排泄管(50)，并且被構造成通過在所述抽吸端(51)處實現(xiàn)負壓而產生通過所述污物排泄管的流體流；

其中所述振蕩器單元(30)的射流開口(36)面向所述污物排泄管(50)的抽吸端(51)，以使得在操作期間，通過所述射流開口(36)從所述振蕩空間(34)排出的流體被有效地注射到在所述抽吸端(51)處所產生的流體流中并且被夾帶在所述流體流中。