[發明專利]曝光裝置及已曝光材料的制造方法有效
| 申請號: | 201380004517.1 | 申請日: | 2013-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN104024943A | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發明(設計)人: | 橋本和重 | 申請(專利權)人: | V科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 謝順星;張晶 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 裝置 材料 制造 方法 | ||
1.一種曝光裝置,其特征在于,具備光源、曝光用掩膜、微透鏡陣列、攝像部、圖像識別部、對位控制部和曝光開始時機控制部;
所述光源對被曝光材料照射曝光光;
所述曝光用掩膜保持在所述光源與所述被曝光材料之間;
所述微透鏡陣列配置在所述被曝光材料與所述曝光用掩膜之間;
所述攝像部為了使用設置在所述被曝光材料上的第一對位用標記和設置在所述曝光用掩膜上的第二對位用標記,對所述被曝光材料與所述曝光用掩膜進行對位,對通過所述微透鏡陣列在所述曝光用掩膜上成像的第一對位用標記的至少一部分和所述第二對位用標記進行攝像,若所述攝像結束,則向規定方向移動,以不妨礙對所述被曝光材料的曝光;
所述圖像識別部對通過所述攝像部攝像得到的第一對位用標記的至少一部分和第二對位用標記進行識別;
所述對位控制部基于通過所述圖像識別部識別到的第一對位用標記的至少一部分和第二對位用標記的位置信息,對所述被曝光材料與所述曝光用掩膜進行對位;
所述曝光開始時機控制部在所述攝像部的所述移動結束前,使來自所述光源的所述曝光光開始照射。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置,其特征在于,所述光源在移動的同時照射所述曝光光。
3.根據權利要求2所述的曝光裝置,其特征在于,所述微透鏡陣列在所述攝像部進行攝像的期間,在設置在所述被曝光材料上的所述第一對位用標記與設置在所述曝光用掩膜上的所述第二對位用標記之間向一個方向移動,在所述光源照射所述曝光光的期間,與所述光源一起向所述一個方向的相反方向移動。
4.根據權利要求1至3中任意一項所述的曝光裝置,其特征在于,
所述微透鏡陣列在所述攝像部進行攝像的期間,在設置在所述被曝光材料上的所述第一對位用標記與設置在所述曝光用掩膜上的所述第二對位用標記之間移動;
所述攝像部對通過移動的所述微透鏡陣列在所述曝光用掩膜上成像的所述第一對位用標記的至少一部分與所述第二對位用標記一起,進行多次或連續攝像;
所述圖像識別部將所述多次或連續攝像得到的圖像相互重疊,生成用來對所述第一對位用標記相對于所述第二對位用標記的位置進行特定的合成圖像。
5.一種已曝光材料制造方法,其特征在于,
使用具備光源、曝光用掩膜和微透鏡陣列的曝光裝置來制造已曝光材料,所述光源對被曝光材料照射曝光光,所述曝光用掩膜保持在所述光源與所述被曝光材料之間,所述微透鏡陣列配置在所述被曝光材料與所述曝光用掩膜之間;
包括:
攝像步驟,為了使用設置在所述被曝光材料上的第一對位用標記和設置在所述曝光用掩膜上的第二對位用標記,對所述被曝光材料與所述曝光用掩膜進行對位,攝像部對通過所述微透鏡陣列在所述曝光用掩膜上成像的第一對位用標記的至少一部分和所述曝光用掩膜的第二對位用標記進行攝像;
圖像識別步驟,圖像識別部對通過所述攝像步驟攝像得到的第一對位用標記的至少一部分和第二對位用標記進行識別;
對位步驟,對位控制部基于通過所述圖像識別步驟識別到的第一對位用標記的至少一部分和第二對位用標記的位置信息,對所述被曝光材料與所述曝光用掩膜進行對位;
攝像部移動步驟,在所述攝像步驟中的所述攝像結束后,所述攝像部向規定方向移動,以不妨礙對所述被曝光材料的曝光;
曝光開始步驟,在所述攝像部移動步驟中的所述攝像部移動結束前,曝光開始時機控制部使來自所述光源的所述曝光光,對通過所述對位步驟進行了對位的所述被曝光材料和所述曝光用掩膜開始照射。
6.根據權利要求5所述的已曝光材料制造方法,其特征在于,其還包括所述光源在移動的同時照射所述曝光光的曝光步驟。
7.根據權利要求6所述的已曝光材料制造方法,其特征在于,
在所述攝像步驟中,所述微透鏡陣列在設置在所述被曝光材料上的所述第一對位用標記與設置在所述曝光用掩膜上的所述第二對位用標記之間向一個方向移動;
在所述曝光步驟中,所述微透鏡陣列與所述光源一起向所述一個方向的相反方向移動。
8.根據權利要求5至7中任一項所述的已曝光材料制造方法,其特征在于,
在所述攝像步驟中,所述微透鏡陣列在設置在所述被曝光材料上的所述第一對位用標記與設置在所述曝光用掩膜上的所述第二對位用標記之間移動,所述攝像部對通過移動的所述微透鏡陣列在所述曝光用掩膜上成像的所述第一對位用標記的至少一部分與所述第二對位用標記一起,進行多次或連續攝像;
在所述圖像識別步驟中,所述圖像識別部將所述多次或連續攝像得到的圖像相互重疊,生成用來對所述第一對位用標記相對于所述第二對位用標記的位置進行特定的合成圖像。
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