[實用新型]一種直讀光譜采集裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320894331.5 | 申請日: | 2013-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN203745378U | 公開(公告)日: | 2014-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 俞曉峰;韓雙來;壽淼鈞;尚艷麗;陳斌;楊凱 | 申請(專利權(quán))人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/67 | 分類號: | G01N21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310052 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 直讀 光譜 采集 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光譜采集裝置,尤其是一種直讀光譜采集裝置。?
背景技術(shù)
圖1所示是常見的直讀光譜激發(fā)臺設(shè)計,包括激發(fā)臺1、電極裝配結(jié)構(gòu)2、電極3、樣品4、采光透鏡5、采光單元6等組成。高壓電信號經(jīng)過電極3向樣品金屬4放電,擊穿兩者之間的空間氛圍(空氣或者惰性保護氣體)產(chǎn)生電弧/火花光源,產(chǎn)生的光源信號經(jīng)過采光透鏡5被采集到采光單元6上進入到后續(xù)分析單元進行光譜分析。?
由于電弧/火花光源的特性,直讀光譜的炬焰針對不同元素具有不同的蒸發(fā)效果,導(dǎo)致在整個炬焰區(qū)域形成了不同的溫度梯度,可將樣品和電極之間形成的光源分為三個區(qū)域:在靠近電極表面和樣品表面的區(qū)域為背景區(qū)7,光源的中心部位為光譜區(qū)8。?
在背景區(qū),區(qū)域溫度較低,蒸發(fā)效果顯著,基體樣品大量存在,因此有大量的背景干擾光譜;而在光譜區(qū),溫度較高,離子密度會較電極和樣品表面低,樣品基體的影響大為降低,因此光譜的背景干擾將會大大降低,比較適合分析光譜。?
而不同元素所需的激發(fā)能量也不同,因此不同元素的最佳激發(fā)區(qū)域也會不同,比如紫外光譜(如P、S、C等光譜)的激發(fā)所需能量較高,因此它們的最佳激發(fā)區(qū)域在光譜的中心部位,而樣品表面會有大量的背景干擾,不利于分析紫外光譜;而對于普通的長波光譜,整個炬焰區(qū)域都有較好的激發(fā)。?
但是在使用時由于光源區(qū)域非常小,背景區(qū)和光譜區(qū)的光譜均會被采光透鏡采集到光譜區(qū),導(dǎo)致光譜干擾不可避免的存在,尤其是在分析紫外光譜時,背景干擾對于分析譜線的影響尤為明顯。?
元素譜線中,適合在深紫外區(qū)域探測的元素譜線有:?
P:153.592nm,177.495nm,178.284nm,178.766nm,185.891nm;?
S:180.731nm;?
N:174.272nm,174.525nm,149.263nm;?
As:180.615nm,189.042nm;?
A1:167.079nm;?
C:193.091nm。?
Fe的光譜非常豐富,而在直讀光譜儀中,F(xiàn)e在基體中的含量往往是50%以上,而待分析元素含量往往是ppm級別,兩者相差數(shù)萬至數(shù)十萬倍,因此Fe等元素的基體干擾將會影響到待分析元素的檢測,如Fe的193.451nm會影響C193光譜,F(xiàn)e188.870會影響As光譜189光譜。?
因此,在分析紫外光譜時,需要借助專門的結(jié)構(gòu)來消除光譜干擾。?
在目前的直讀光譜儀產(chǎn)品中有兩種做法:?
其一:請參閱圖2,對于有光譜干擾區(qū)域的光譜不采集,只采集中心最佳激發(fā)區(qū)域的光譜,這樣就消除了紫外光譜干擾,但是缺點是大量的有用光譜被屏蔽,無法采集,降低了光譜利用率。?
其二:請參閱圖3,在采光通道位置設(shè)置一個可以運動的擋光機構(gòu)9,當(dāng)需要分析紫外光譜時就將該擋光機構(gòu)9擋在光路中,這樣可以有效的擋掉一部分樣品表面的背景光,而只將有效的中間激發(fā)區(qū)域產(chǎn)生的紫外光譜采集到分光系統(tǒng)中,此時會犧牲一部分的光強,同時也會影響到長波的穩(wěn)定性,不利于長波分析;當(dāng)分析長波光譜時,則將該擋光機構(gòu)9移出光路結(jié)構(gòu),采集全譜的光譜;所以整個分析系統(tǒng)是一個分時分析。同時由于隨著電極和樣品的不同,電極向樣品放電后產(chǎn)生的光源的光譜位置會經(jīng)常變動,采用該擋光機構(gòu)設(shè)計的結(jié)構(gòu)需要精密調(diào)節(jié)位置,否則在分析時會導(dǎo)致干擾消除不徹底或者擋掉了過多有用光譜。?
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足,本發(fā)明提供了一種在全部采集可見光譜的同時實現(xiàn)紫外光譜干擾消除的直讀光譜采集裝置。?
為實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:?
一種直讀光譜采集裝置,包括激發(fā)電極、樣品、采光模塊,所述激發(fā)電極對樣品放電形成光源,所述光源包括位于上下兩側(cè)的背景區(qū)及處于中心位置的光譜區(qū),所述采光模塊和所述光源之間是采光通道,其特點是:?
所述采光模塊包括固定在所述采光通道內(nèi)的光闌,所述光闌阻擋所述背景區(qū)的紫外光譜。?
進一步,所述光闌為短波截止波片或濾波片。?
作為優(yōu)選,所述光闌設(shè)置在所述采光通道的上部,且未阻擋所述光譜區(qū)的光譜。?
作為優(yōu)選,所述光闌設(shè)置在所述采光通道內(nèi),所述光闌中心短波通過。?
作為優(yōu)選,所述光闌中心中空或中心不鍍膜。?
進一步,采光模塊包括采光透鏡,所述光闌為在所述采光透鏡的邊緣部分鍍膜形成。?
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





