[實(shí)用新型]一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320892750.5
• 申請(qǐng)日: 2013-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN203689494U
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃亮;陳凱;郭智;李益芳;黃海東;劉錫鋼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳力合光電傳感股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/044
• 分類號(hào): G06F3/044
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237
• 代理人: 張全文

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于電容觸摸屏技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

電容觸摸屏用的ITO玻璃是一種透電導(dǎo)電玻璃，這是由普通白玻璃上加一層透明導(dǎo)電膜而構(gòu)成。ITO導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫（俗稱ITO）膜加工制作成的。液晶顯示器專用ITO導(dǎo)電玻璃，還會(huì)在鍍ITO層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內(nèi)液晶里擴(kuò)散。ITO玻璃的性能指標(biāo)為透過率和電阻，透過率為顯示產(chǎn)品最重要的性能參數(shù)。

通常，如圖1所示，電容式觸摸屏使用單面ITO鍍膜玻璃，經(jīng)過刻蝕以后形成圖案，但是由于單面ITO玻璃的反射率較高，會(huì)存在ITO底影效果，嚴(yán)重影響觸摸屏的外觀及產(chǎn)品性能。為了消除ITO底影，傳統(tǒng)上采用在玻璃基板10上，先將五氧化二鈮(Nb₂O₅)通過磁控濺射鍍到玻璃基板10表面，形成一個(gè)五氧化二鈮層20作為消影膜層，然后再覆上二氧化硅層30，最后再覆上氧化銦錫層30，再去觀察消影的效果，其結(jié)構(gòu)是glass+Nb₂O₅+SiO₂+ITO。實(shí)際制作電容觸摸屏?xí)r，既要確保氧化銦錫的方阻值在預(yù)定范圍內(nèi)，又要確保消影效果，在鍍?cè)O(shè)五氧化二鈮后，再微調(diào)氧化銦錫的方阻值，獲得較好的消影效果。

如此，極易造成消影效果合格時(shí)，氧化銦錫的方阻值不達(dá)標(biāo)；或是，氧化銦錫的方阻值達(dá)標(biāo)時(shí)，消影效果不合格，也就是現(xiàn)有的電容觸摸屏無法兼顧氧化銦錫方阻值和消影效果，良品率低，不能滿足市場(chǎng)需求。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中電容觸摸屏無法兼顧氧化銦錫方阻值和消影效果的問題。

本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)，包括一玻璃底板，所述玻璃底板上依次堆疊有二氧化硅膜、氧化銦錫膜和氮化硅膜，所述氧化銦錫膜上蝕刻有用于顯示圖像的線路。

進(jìn)一步地，所述玻璃底板為白玻璃板。

較佳地，所述二氧化硅膜通過真空磁控連續(xù)鍍?cè)O(shè)于所述玻璃底板上。

具體地，所述氧化銦錫膜通過磁控濺射沉積于所述二氧化硅膜。

更具體地，所述氮化硅膜鍍?cè)O(shè)于所述氧化銦錫膜上。

較佳地，所述二氧化硅膜的厚度為200-600埃。

具體地，所述氧化銦錫膜的厚度為150-1200埃。

更具體地，所述氮化硅膜的厚度為300-500埃。

本實(shí)用新型通過將二氧化硅膜、氧化銦錫膜和氮化硅膜依次重疊布置于玻璃底板上，如此，改變了現(xiàn)有電容觸摸屏的消影結(jié)構(gòu)。實(shí)際制作中，先將氧化銦錫布置于玻璃底板上，保證了氧化銦錫的方阻值一定，然后再根據(jù)氧化銦錫方阻和成膜效果去調(diào)節(jié)氮化硅膜的消影效果，從而使得氧化銦錫上的線路不明顯，提高用戶的視覺享受。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中一種電容觸摸屏消影結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)的示意圖；標(biāo)記說明：

10-玻璃基板；20-五氧化二鈮層；30-二氧化硅層；40-氧化銦錫層；

1-玻璃底板；2-二氧化硅膜；3-氧化銦錫膜；4-氮化硅膜。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

本實(shí)用新型提供的一種電容觸摸屏用的消影結(jié)構(gòu)，其包括一玻璃底板1，玻璃底板1上依次重疊布置有二氧化硅膜2、氧化銦錫膜3以及氮化硅膜4，該氧化銦錫膜3蝕刻有用于顯示圖像的線路。如此設(shè)置，將氮化硅膜4作為減反層（也是消影層），改變了現(xiàn)有電容觸摸屏的消影結(jié)構(gòu)。依據(jù)多層膜的光學(xué)干涉作用，使反射率減小，可以達(dá)到消除氧化銦錫膜3上線路顯示的目的。實(shí)際制作中，氧化銦錫先布置于玻璃底板1上，保證氧化銦錫的方阻值一定后，再根據(jù)氧化銦錫的方阻值和成膜效果去調(diào)節(jié)氮化硅膜4的消影效果，從而使得氧化銦錫上的線路不明顯，同時(shí)兼顧了氧化銦錫方阻值一定以及電容觸摸屏的消影效果，提高了用戶的視覺享受。