[實用新型]一種晶硅電池雙層膜鈍化減反結構有效
| 申請號: | 201320886856.4 | 申請日: | 2013-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN203690311U | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發明(設計)人: | 秦廣飛;金保華;燕飛;汪文淵;王鵬;張建亮 | 申請(專利權)人: | 秦廣飛 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216 |
| 代理公司: | 濟南泉城專利商標事務所 37218 | 代理人: | 張貴賓 |
| 地址: | 274300 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電池 雙層 鈍化 結構 | ||
【權利要求書】:
1.一種晶硅電池雙層膜鈍化減反結構,其特征是:晶硅電池片(1)表面鍍有兩層氮化硅薄膜,晶硅電池片(1)上方的下層氮化硅薄膜(2)及下層氮化硅薄膜(2)上方的上層氮化硅薄膜(3),所述下層氮化硅薄膜(2)的厚度為d2,折射率為n2,上層氮化硅薄膜(3)的厚度d1,折射率為n1,且d1>d2,n1<n2。
2.根據權利要求1所述的一種晶硅電池雙層膜鈍化減反結構,其特征是:所述n1、n2、d2的關系為n12=n0n2,其中n0為空氣的折射率,n1d1=λ0/4,λ0為入射光波長。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





