[實(shí)用新型]一種超臨界二氧化碳染色釜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320882130.3
• 申請(qǐng)日: 2013-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN203614739U
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 祝勇仁;張煒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院
• 主分類號(hào): F16J15/10
• 分類號(hào): F16J15/10;D06B23/00
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 周涌賀

1.一種超臨界二氧化碳染色釜，包括染色釜體（1），染色釜體（1）上端設(shè)有開口（2），開口（2）上設(shè)有端蓋（3），端蓋（3）中設(shè)有伸入染色釜體（1）內(nèi)的測(cè)溫管（4），染色釜體（1）內(nèi)設(shè)有固定測(cè)溫管（4）的定位套（5），端蓋（3）上設(shè)有把手（6），其特征是：所述端蓋（3）上設(shè)有與開口（2）外端面呈密封配合的內(nèi)密封面（3-1）、與開口（2）內(nèi)壁呈密封配合的外密封面（3-2），所述開口（2）外端面開有凹槽（2-1），凹槽（2-1）內(nèi)設(shè)有環(huán)形圈（7），所述端蓋（3）的外密封面（3-2）上開有貫穿端蓋（3）下端的安裝槽（3-3），安裝槽（3-3）上安裝有V型密封圈組（8），在端蓋（3）的下端面上固定有內(nèi)板（9），內(nèi)板（9）的外沿限位頂壓在V型密封圈組（8）下端面的內(nèi)部分，所述開口（2）的內(nèi)壁設(shè)有限位臺(tái)階（2-2），限位臺(tái)階（2-2）限位頂壓在V型密封圈組（8）下端面的外部分，所述限位臺(tái)階（2-2）的內(nèi)壁與內(nèi)板（9）外壁之間設(shè)有間隙（10）；所述V型密封圈組（8）包括上壓環(huán)（8-1）和下壓環(huán)（8-2），上壓環(huán)（8-1）和下壓環(huán)（8-2）之間設(shè)有一組呈倒V形結(jié)構(gòu)的密封圈（8-3），下壓環(huán)（8-2）的上表面為倒V形凸起并頂壓在密封圈（8-3），密封圈（8-3）下表面的中間開有展開槽（8-4）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超臨界二氧化碳染色釜，其特征是：所述染色釜體（1）與端蓋（3）之間設(shè)有卡箍（11），卡箍（11）外套有一組鎖環(huán)（12），鎖環(huán)（12）與卡箍（11）之間呈面接觸。