[實用新型]一種具有TiN或TiAlN薄膜層的膨脹錐有效
| 申請號： | 201320878720.9 | 申請日： | 2013-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN203729932U | 公開（公告）日： | 2014-07-23 |
| 發明（設計）人： | 劉合;商宏飛;魏松波;邵天敏;李濤;石白茹;裴曉含;鄭立臣;李益良;孫強;高揚 | 申請（專利權）人： | 中國石油天然氣股份有限公司;清華大學 |
| 主分類號： | E21B29/10 | 分類號： | E21B29/10;B32B1/00;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 韓蕾 |
| 地址： | 100007 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 tin tialn 薄膜 膨脹 | ||
1.一種具有TiN或TiAlN薄膜層的膨脹錐，其特征在于，所述膨脹錐（1）的工作面外表面至少在膨脹錐變徑段（2）的區域設置TiN或TiAlN薄膜層（3），所述薄膜層（3）環繞膨脹錐設置一周。
2.根據權利要求1所述的膨脹錐，其特征在于，所述薄膜層（3）厚度為0.5μm-5μm。
3.根據權利要求2所述的膨脹錐，其特征在于，所述薄膜層（3）厚度為2μm。
4.根據權利要求1所述的膨脹錐，其特征在于，所述薄膜層（3）為納米硬度在20GPa-30GPa的薄膜層。
5.根據權利要求1～4任意一項所述的膨脹錐，其特征在于，在所述TiN或TiAlN薄膜層（3）和膨脹錐（1）工作面外表面之間還設置過渡層（6）。
6.根據權利要求5所述的膨脹錐，其特征在于，所述過渡層（6）與所述TiN或TiAlN薄膜層（3）形狀匹配且重疊設置。
7.根據權利要求5所述的膨脹錐，其特征在于，所述過渡層（6）厚度為0.1～0.5μm。
8.根據權利要求7所述的膨脹錐，其特征在于，所述過渡層（6）厚度為0.2μm。
9.根據權利要求5所述的膨脹錐，其特征在于，當膨脹錐為具有TiN薄膜層（3）的膨脹錐時，所述過渡層（6）為Ti過渡層；當膨脹錐為具有TiAlN薄膜層（3）的膨脹錐時，所述過渡層（6）為TiAl過渡層。
10.根據權利要求6、7或8所述的膨脹錐，其特征在于，當膨脹錐為具有TiN薄膜層（3）的膨脹錐時，所述過渡層（6）為Ti過渡層；當膨脹錐為具有TiAlN薄膜層（3）的膨脹錐時，所述過渡層（6）為TiAl過渡層。
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