[實(shí)用新型]改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320871227.4
• 申請日: 2013-12-27
• 公開（公告）號(hào): CN203760484U
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張書郎
• 申請（專利權(quán)）人: 湖北燁和電子科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L29/861
• 分類號(hào): H01L29/861;H01L23/488
• 代理公司: 武漢金堂專利事務(wù)所 42212
• 代理人: 胡清堂

1.一種改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：包括凸臺(tái)式銅基座，凸臺(tái)式銅基座上方焊接有階梯式引線，凸臺(tái)式銅基座外部套有銅殼。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：所述的凸臺(tái)式銅基座，包括：銅基座焊接臺(tái)（1），銅基座焊接臺(tái)（1）上設(shè)置有蝕刻止液面（2），蝕刻止液面（2）與卡環(huán)邊（3）相連。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：所述的階梯式引線上設(shè)置有引線止液疊層（4），引線止液疊層（4）下方為引線焊接面（5），引線焊接面（5）下方焊接有晶粒（6）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：所述的銅殼上設(shè)置有銅基座直紋（6）。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：所述的蝕刻止液面（2）高度為0.5—5mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改進(jìn)結(jié)構(gòu)的平面工藝二極管，其特征在于：所述的卡環(huán)邊（3）的內(nèi)槽中套有膠環(huán)，膠環(huán)內(nèi)部灌滿液態(tài)黑膠進(jìn)行二次保護(hù)。