[實用新型]類金剛石膜涂層設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320862753.4
• 申請日: 2013-12-25
• 公開（公告）號: CN203700496U
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳遠(yuǎn)達(dá);王勝云;何靜
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南中航超強(qiáng)金剛石膜高科技有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.類金剛石膜涂層設(shè)備，其特征在于：它包括涂層室、行星旋轉(zhuǎn)工件架、磁過濾弧源、分子泵、真空系統(tǒng)，所述涂層室為立式圓柱形，整體雙層水冷式結(jié)構(gòu)，所述涂層室前部設(shè)有進(jìn)料門，所述涂層室的頂部設(shè)有管狀加熱器、熱電偶接口，所述涂層室的底部設(shè)有進(jìn)氣口和行星旋轉(zhuǎn)工件架，所述行星旋轉(zhuǎn)工件架底部連接有驅(qū)動系統(tǒng)，所述涂層室的側(cè)壁安裝有磁過濾弧源，所述涂層室的后部安裝有分子泵和真空系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的類金剛石膜涂層設(shè)備，其特征在于：所述磁過濾弧源由引弧電極、陰極支架、靶材、推弧電磁線圈、聚焦電磁線圈、彎頭組成，所述靶材安裝在陰極支架上，所述引弧電極和所述陰極支架外接引弧電源，所述推弧電磁線圈和所述聚焦電磁線圈安裝在所述引弧電極和陰極支架產(chǎn)生電弧處的外圍。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的類金剛石膜涂層設(shè)備，其特征在于：所述彎頭為錐度2°彎曲弧度為100°的錐度彎頭，所述錐度彎頭的外表面安裝有多個彎曲弧電磁線圈，在錐度彎頭內(nèi)形成強(qiáng)度為0～20?mT的彎曲磁場。