[實(shí)用新型]一種改進(jìn)型常壓等離子體處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320856371.0
• 申請日: 2013-12-24
• 公開（公告）號: CN203617248U
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王紅衛(wèi);沈文凱
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232
• 代理人: 孟宏偉

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于等離子體處理裝置，具體涉及一種改進(jìn)型常壓等離子體處理裝置。

背景技術(shù)

材料表面改性處理技術(shù)是當(dāng)前普遍使用的材料制備技術(shù)之一，它是在一定的外界條件下，材料外部物質(zhì)和材料表面發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)，從而使材料表面狀態(tài)發(fā)生變化或在材料表面產(chǎn)生新的元素和新的基團(tuán)，最終滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。

但是，現(xiàn)代工業(yè)的迅猛發(fā)展對材料耐磨擦、磨損和抗腐蝕等性能提出了更高的要求，與此同時(shí)，對環(huán)保的要求也越來越高，從而有力地推動被稱為綠色生產(chǎn)工藝的材料等離子表面改性技術(shù)的不斷發(fā)展。在真空下，給反應(yīng)氣體環(huán)境施加高頻電場，氣體在高頻電場的激勵(lì)下電離產(chǎn)生等離子體。

然而，現(xiàn)有技術(shù)中的等離子體處理裝置不能均勻的處理被處理物料，且必須在高壓下才能處理物料。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，提供一種改進(jìn)型常壓等離子體處理裝置。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：一種改進(jìn)型常壓等離子體處理裝置，包括一陰極板，與上述陰極板相對應(yīng)的陽極板，上述陰極板和上述陽極板之間接入高頻電源，上述陰極板和上述陽極板之間形成高頻電場，上述陰極板厚度大于上述陽極板厚度，上述陰極板和上述陽極板之間有一絕緣層，上述陰極板上設(shè)置有至少一個(gè)通氣孔，上述通氣孔用以氣體的進(jìn)入，上述通氣孔與一氣體腔連接，被處理物料設(shè)置在上述絕緣層上。

優(yōu)選地，上述絕緣層設(shè)置在上述陽極板上，與上述陽極板想貼合設(shè)置。

優(yōu)選地，上述氣體腔的一端與上述通氣孔連接，上述氣體腔的另一端與上述絕緣層連接。

優(yōu)選地，上述通氣孔為的橫截面為圓形，上述通氣孔均勻地設(shè)置在陽極板上。

優(yōu)選地，上述氣體腔為圓柱形，上述氣體腔的內(nèi)徑大于上述通氣孔的內(nèi)徑。

優(yōu)選地，上述陽極板做接地設(shè)置。

采用本技術(shù)方案的有益效果是：本實(shí)用新型的等離子體處理裝置陽極板和陰極板之間形成高頻電場，并且陰極板厚度大于陽極板厚度，陰極板上設(shè)置有通氣孔，通氣孔與設(shè)置在陽極板和陰極板之間的氣體腔連接，形成微空心陰極，能夠簡單均勻地處理物料，陽極板和陰極板之間有一絕緣層，能有效防止平行電極板正對打火，本裝置不需要在真空條件下進(jìn)行，只要在常壓下就能很好的處理需要處理的物料。

附圖說明

為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中：

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的立體示意圖；?

圖中，1.通氣孔2.氣體腔?3.絕緣層?4.陽極板?5.陰極板。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型的具體實(shí)施例。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種改進(jìn)型常壓等離子體處理裝置，包括一陰極板5，與陰極板5相對應(yīng)的陽極板4，陰極板5和陽極板4之間接入高頻電源，陰極板5和陽極板4之間形成高頻電場，并且陰極板5厚度大于陽極板4厚度，這便形成微空心陰極，為防止陰極板5和陽極板4正對打火，陰極板5和陽極板4之間有一絕緣層3，陰極板5上設(shè)置有至少一個(gè)通氣孔1，通氣孔1用以氣體的進(jìn)入，通氣孔1與一氣體腔2連接，被處理物料設(shè)置在所述絕緣層3上。絕緣層3設(shè)置在陽極板4上，與陽極板4相貼合設(shè)置。氣體腔2為圓柱形，氣體腔2的一端與通氣孔1連接，氣體腔2的另一開口端正對與絕緣層3連接，氣體腔2的內(nèi)徑大于通氣孔1的內(nèi)徑，通氣孔1的橫截面為圓形，通氣孔1均勻地設(shè)置在陰極板5上，陽極板4做接地設(shè)置。

本等離子體處理裝置在處理物料時(shí)，將物料放置在絕緣層3上，通氣孔1中通入氣體，并且陽極板4和陰極板5之間連接高頻電源，在陽極板4和陰極板5之間形成高頻電場，通氣孔1中通入的氣體在高頻電場中放電產(chǎn)生等離子體對物料進(jìn)行等離子體處理。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型的等離子體處理裝置陽極板和陰極板之間形成高頻電場，并且陰極板厚度大于陽極板厚度，陰極板上設(shè)置有通氣孔，通氣孔與設(shè)置在陰極板和陽極板之間的氣體腔連接，形成微空心陰極，能夠簡單均勻地處理物料，陽極板和陰極板之間有一絕緣層，能有效防止平行電極板正對打火，本裝置不需要在真空條件下進(jìn)行，只要在常壓下就能很好的處理需要處理的物料。

以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。