[實用新型]一種連續脫羧反應裝置

有效

• 申請號: 201320851031.9
• 申請日: 2013-12-20
• 公開（公告）號: CN203803486U
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 張智勇;陳焱鋒;李作銘
• 申請（專利權）人: 上海三愛富新材料股份有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;C07C43/17;C07C41/18
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 朱黎明

1.一種脫羧反應裝置，它包括：

（a）一個圓筒型脫羧反應室（10），該圓筒型脫羧反應室（10）包括反應室壁（3）；

（b）與該圓筒型脫羧反應室（10）同軸安裝的刮板筒（9），該刮板筒（9）包括上底環（21）、下底環（41）、在所述上底環（21）和下底環（41）之間與所述反應室壁（3）平行的多根刮板（31），所述上底環（21）和下底環（41）具有相同的直徑，所述多根刮條中的一部分刮條與所述反應器壁之間的間距小于1cm，而另一部分刮條與所述反應器壁之間的間距為1-5cm；

（c）安裝在所述圓筒型脫羧反應室（10）下方基本水平放置的固體干燥室（4），該固體干燥室（4）內部裝有推動物料向前移動的螺旋狀機械裝置（5），外部裝有加熱裝置（6）。

2.如權利要求1所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述間距小于1cm的所述一部分刮條為平板條；所述間距為1-5cm的另一部分刮條為包覆可自由旋轉滾筒的圓柱條。

3.如權利要求2所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述平板條與所述反應器壁之間的間距小于0.5cm；所述包覆可自由旋轉滾筒的圓柱條所述反應器壁之間的間距為1.2-4cm。

4.如權利要求3所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述平板條與所述反應器壁之間的間距小于0.2cm；所述包覆可自由旋轉滾筒的圓柱條所述反應器壁之間的間距為1.5-3cm。

5.如權利要求1-4中任一項所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述多根刮條中的一部分刮條與所述另一部分刮條以相同的間距間隔放置。

6.如權利要求1-4中任一項所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述刮板的長度是脫羧反應室（10）高度的40-90％。

7.如權利要求6所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述刮板的長度是脫羧反應室（10）高度的45-85％。

8.如權利要求7所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述刮板的長度是脫羧反應室（10）高度的50-80％。

9.如權利要求1所述的脫羧反應裝置，其特征在于所述螺旋狀機械裝置（5）由電機(1)驅動。

10.如權利要求1所述的脫羧反應裝置，其特征在于在所述固體干燥室4下方它還包括固體收集筒(7)，該固體收集筒（7）經由球閥（8）與固體干燥室（4）相連，以便收集最終干燥的固體。