[實(shí)用新型]一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320850016.2
• 申請日: 2013-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN203672323U
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟一;張掙鑫
• 申請（專利權(quán)）人: 中南大學(xué);貴州理工學(xué)院
• 主分類號(hào): G01B11/02
• 分類號(hào): G01B11/02
• 代理公司: 長沙市融智專利事務(wù)所 43114
• 代理人: 顏勇

1.一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：包括兩個(gè)激光位移計(jì)和隨所述落錘試驗(yàn)機(jī)錘頭移動(dòng)的兩個(gè)反射塊，兩個(gè)反射塊包括傾斜反射塊和豎直反射塊，所述激光位移計(jì)并排固定設(shè)置在所述錘頭下落至試件沖擊加載的位置一側(cè)，并分別與傾斜反射塊和豎直反射塊的反射面位置對應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：所述落錘試驗(yàn)機(jī)的錘頭上方的中軸線位置設(shè)有底座，所述傾斜反射塊和豎直反射塊并排設(shè)置在所述底座上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：所述底座與錘頭之間通過底座固定螺釘固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：所述底座上設(shè)有豎直的背板，所述傾斜反射塊和豎直反射塊通過反射塊固定螺釘固定設(shè)置在所述背板上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：所述傾斜反射塊為不銹鋼材質(zhì)的楔形塊，其反射面為傾斜面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種落錘試驗(yàn)機(jī)位移測量裝置，其特征在于：所述豎直反射塊為不銹鋼材質(zhì)長方體，其反射面為其中一個(gè)豎直側(cè)面。