[實用新型]一種等離子體刻蝕設備進氣裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320839171.4
• 申請日: 2013-12-19
• 公開（公告）號: CN203690266U
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發(fā)明（設計）人: 謝利華;陳特超;李健志;王萍;王玉明
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01J37/02;H01J37/32
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強

1.一種等離子體刻蝕設備進氣裝置，包括連接等離子體刻蝕設備的等離子體源室（2）和反應腔體（6）的中空連接件（4）；其特征在于，所述連接件內固定有勻氣環(huán)（1）；所述勻氣環(huán)（1）上開設有缺口（9），所述缺口（9）兩側的勻氣環(huán)（1）端口與固定在連接件（4）內的三通接頭（3）的兩個端口連通；所述三通接頭（3）第三個端口與一根連通開設在所述連接件（4）上的進氣口（7）和出氣口（8）的進氣管（10）連通；所述勻氣環(huán)（1）內側壁上開設有多個噴淋孔（6）。

2.根據(jù)權利要求1所述的等離子體刻蝕設備進氣裝置，其特征在于，所述勻氣環(huán)（1）采用直徑為6～15mm的內拋光316L不銹鋼管制成，所述勻氣環(huán)（1）直徑為250mm。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的等離子體刻蝕設備進氣裝置，其特征在于，所述勻氣環(huán)（1）通過緊固件（5）與所述連接件（4）內壁固定連接。

4.根據(jù)權利要求3所述的等離子體刻蝕設備進氣裝置，其特征在于，所述多個噴淋孔（6）大小相同，各噴淋孔（6）直徑均為0.5~3mm，相鄰兩個噴淋孔的間距為1~5mm。

5.根據(jù)權利要求4所述的等離子體刻蝕設備進氣裝置，其特征在于，所述多個噴淋孔（6）均勻分布在所述勻氣環(huán)（1）內側壁上。

6.根據(jù)權利要求5所述的等離子體刻蝕設備進氣裝置，其特征在于，所述連接件（4）為法蘭。