[實用新型]一種微波等離子體化學氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 201320838383.0 | 申請日: | 2013-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN203653692U | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 王宏興 | 申請(專利權)人: | 王宏興 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/511 |
| 代理公司: | 陜西增瑞律師事務所 61219 | 代理人: | 張瑞琪 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微波 等離子體 化學 沉積 裝置 | ||
1.一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,包括由反應腔上蓋(4)和反應臺(9)組成的反應腔,所述反應腔下方設置有相連接的矩形波導(1)和同軸波導(2);所述同軸波導(2)的中心軸(10)伸入在所述反應腔內,所述中心軸(10)的上方同軸固定連接有用于放置襯底(13)的樣品臺(11);所述反應腔上蓋(4)的中心開有氣體導入口(5),所述反應腔上蓋(4)的頸部還設置均勻開有多個進氣小孔(7)的水平隔板(6),所述水平隔板(6)和反應腔上蓋(4)的頂部之間形成氣體緩沖混合腔,所述樣品臺(11)上緊鄰襯底(13)的邊緣外側呈圓周分布均勻開有排氣通道。
2.根據權利要求1所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述氣體緩沖混合腔的中部具有一外凸式環狀結構。
3.根據權利要求1或2所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述排氣通道包括呈圓周均勻分布開設在樣品臺(11)上緊鄰襯底(13)的邊緣外側位置的多個豎直向排氣小孔(8),所述豎直向排氣小孔(8)的下方通過水平向排氣通道向中心匯聚后、與豎直向下貫穿中心軸(10)開設的主排氣通道(14)相連通。
4.根據權利要求1或2所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述排氣通道包括呈圓周均勻分布開設在樣品臺(11)上緊鄰襯底(13)的邊緣外側位置的多個豎直向排氣小孔(8),所述多個豎直向排氣小孔(8)均與位于其下方的環形氣體通道相連通,所述環形氣體通道通過均勻對稱設置的多個水平向排氣通道向中心匯聚后、與豎直向下貫穿中心軸(10)開設的主排氣通道(14)相連通。
5.根據權利要求4所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述水平向排氣通道的數量為四個且呈“十”字設置。
6.根據權利要求4所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述水平向排氣通道的數量為兩個且呈對稱設置。
7.根據權利要求1或2所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述排氣通道包括呈圓周均勻分布開設在樣品臺(11)上緊鄰襯底(13)的邊緣外側位置的多個豎直向排氣小孔(8),所述多個豎直向排氣小孔(8)均與位于其下方的環形氣體通道相連通,所述環形氣體通道通過徑向向外側開設的水平向排氣通道連接有石英管(15),所述各石英管(15)的另一端緊鄰樣品臺(11)的外側向下穿過反應臺(9)設置。
8.根據權利要求7所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述水平向排氣通道的數量為四個且呈“十”字設置。
9.根據權利要求1或2所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述進氣小孔(7)的直徑為1毫米。
10.根據權利要求1或2所述的一種微波等離子體化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述排氣通道的寬度為1.5毫米。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于王宏興,未經王宏興許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320838383.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





