[實用新型]一種曝氣廢水處理裝置

有效

• 申請號: 201320837102.X
• 申請日: 2013-12-18
• 公開（公告）號: CN203653326U
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 吳成思;田力
• 申請（專利權）人: 青島金源環境工程有限公司
• 主分類號: C02F3/12
• 分類號: C02F3/12
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 王連君

1.一種曝氣廢水處理裝置，包括深井反應器，所述深井反應器呈“T”形，所述深井反應器包括頂槽區和深井區，所述頂槽區位于深井區的上方，其特征在于：

所述深井區內豎向分布有兩個水流上升管和一個水流下降管，所述水流下降管位于兩個水流上升管之間，所述深井區的底端設置有污泥斗，污泥斗與污泥管連通；所述頂槽區包括頂槽、進水口、側向內循環通道、防噴板和出水口，所述頂槽為長方形，所述進水口位于頂槽的中心處，所述側向內循環通道設置在頂槽的底端，頂槽通過側向內循環通道與所述水流下降管連通，所述防噴板設置在水流下降管頂部的側壁上，所述出水口設置在頂槽的側壁上；

所述水流下降管的底端與水流上升管的頂端相連通，所述水流上升管的側壁上間隔均勻的設置有錐形凹槽，所述錐形凹槽的下端面與水流上升管的夾角為45度；

所述水流下降管內設置有曝氣管一，所述曝氣管一的高度位于所述水流下降管的中下部；所述水流上升管內設置有曝氣管二，所述曝氣管一與曝氣管二在一條水平線上。

2.根據權利要求1所述的一種曝氣廢水處理裝置，其特征在于：所述深井反應器高度為150～300m，所述深井反應器的直徑從下到上依次變大。

3.根據權利要求1所述的一種曝氣廢水處理裝置，其特征在于：所述凹槽有10～15個，所述凹槽位于水流上升管的內側壁上，并且呈環形分布。