[實(shí)用新型]一種旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320831321.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203700509U | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃國(guó)興;孫桂紅;祝海生;黃樂(lè);梁紅;吳永光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司: | 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 411101 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 旋轉(zhuǎn) 平臺(tái) 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:?
一驅(qū)動(dòng)組件,所述驅(qū)動(dòng)組件包括一第一驅(qū)動(dòng)元件、一第二驅(qū)動(dòng)元件和一電機(jī),所述電機(jī)與所述第一驅(qū)動(dòng)元件連接,所述第一驅(qū)動(dòng)元件與所述第二驅(qū)動(dòng)元件連接;?
一旋轉(zhuǎn)組件,所述旋轉(zhuǎn)組件與所述驅(qū)動(dòng)組件連接,所述旋轉(zhuǎn)組件包括一固定架和一旋轉(zhuǎn)盤,所述旋轉(zhuǎn)盤與所述第二驅(qū)動(dòng)元件連接,所述電機(jī)安裝在所述固定架上;和?
一限位組件,所述限位組件安裝在所述旋轉(zhuǎn)組件上,所述限位組件包括一旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器、一感應(yīng)棒和至少一個(gè)感應(yīng)信號(hào)元件,所述感應(yīng)信號(hào)元件與所述旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器連接,所述感應(yīng)信號(hào)元件與所述感應(yīng)棒之間通過(guò)光電距離感應(yīng),所述感應(yīng)信號(hào)元件設(shè)置在所述固定架上,所述旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器和所述感應(yīng)棒安裝在所述旋轉(zhuǎn)盤上。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一控制器,控制器與旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器和電機(jī)連接。?
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述控制器為PLC可編程控制器。?
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述電機(jī)進(jìn)一步包括一旋轉(zhuǎn)軸,所述第一驅(qū)動(dòng)元件設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸上所述第一驅(qū)動(dòng)元件與所述第二驅(qū)動(dòng)元件通過(guò)齒輪嚙合連接。?
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述第一驅(qū)動(dòng)元件為一齒輪,所述第二驅(qū)動(dòng)元件為一回轉(zhuǎn)支承,所述第一驅(qū)動(dòng)元件與第二驅(qū)動(dòng)元件通過(guò)齒輪嚙合。?
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)光電感應(yīng)器設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)盤的一端,所述感應(yīng)棒與所述感應(yīng)信號(hào)元件之間通過(guò)光電距離感應(yīng)。?
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述限位組件進(jìn)一步包括至少一個(gè)導(dǎo)位槽,所述感應(yīng)棒安裝在所述導(dǎo)位槽內(nèi)。?
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一基片傳送組件,所述基片傳送組件固定在所述旋轉(zhuǎn)盤上。?
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述基片傳送組件進(jìn)一步包括至少一個(gè)傳動(dòng)座和一驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述傳動(dòng)座與所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接,所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述傳動(dòng)座傳動(dòng)。?
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)應(yīng)用于真空鍍?膜生產(chǎn)線中,所述真空鍍膜生產(chǎn)線包括基片傳送流水線和鍍膜流水線,所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述基片傳送流水線與所述鍍膜流水線的兩端部,連接所述基片傳送流水線和所述鍍膜流水線。?
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述感應(yīng)信號(hào)元件圍繞所述旋轉(zhuǎn)盤的中心分布在所述固定架上,所述感應(yīng)信號(hào)元件的分布位置與所述感應(yīng)棒隨所述旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的軌跡一致。?
12.據(jù)權(quán)利要求7所述的旋轉(zhuǎn)平臺(tái)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述導(dǎo)位槽圍繞所述旋轉(zhuǎn)盤的中心分布在所述旋轉(zhuǎn)盤上,所述導(dǎo)位槽的分布位置與所述感應(yīng)棒隨所述旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的軌跡一致。?
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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