[實用新型]一種新型勻膠機托盤結構

有效

• 申請號: 201320831163.5
• 申請日: 2013-12-17
• 公開（公告）號: CN203725341U
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 施險峰;王磊;徐明宇;李晟杰
• 申請（專利權）人: 南通大學
• 主分類號: B05C11/10
• 分類號: B05C11/10
• 代理公司: 北京瑞思知識產權代理事務所(普通合伙) 11341
• 代理人: 李濤

技術領域

??本實用新型涉及勻膠機設備領域，特別是涉及一種新型勻膠機托盤結構。

背景技術

現有的光刻膠勻膠臺采用真空吸片的方式吸住硅片，但現有的硅片承片臺無法有效的阻擋光刻膠在甩動過程中滲入真空吸片口中，如圖1所示的現有技術，硅片與真空吸片口直接接觸，勻膠機在高速旋轉過程中，光刻膠受旋轉離心力和表面張力的聯合作用，被展開成一層薄膜，其中甩動過程中被甩出至硅片邊緣的膠滴，由于硅片邊緣與承片臺吸片口的壓力差和膠體的表面張力的作用，部分硅片邊緣的膠滴會沿著硅片的背面被吸入真空吸片口中，從而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，從而造成光刻膠薄膜的均勻性變差，同時會對勻膠臺造成損傷。

實用新型內容

本實用新型主要解決的技術問題是提供一種新型勻膠機托盤結構，具有大容量儲膠槽，能夠儲存較多被甩出的光刻膠，并防止流入儲膠槽內的光刻膠再次被甩出，避免了對勻膠臺的損傷；同時設有傘狀保護結構，一方面保護真空吸片口，徹底防止膠滴滴入，另一方面改變氣流方向，使儲膠槽和硅片背面形成的真空腔體內形成一定的氣壓差，有效防止儲膠槽中的光刻膠在運動過程中回流至硅片背面。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案是：提供一種新型勻膠機托盤結構，包括：硅片承片臺、真空吸片結構和傘狀保護結構；所述硅片承片臺包括：硅片承載平面、儲膠槽和凸臺，所述硅片承載平面位于所述硅片承片臺的上端，所述硅片承載平面為一圓形水平面，所述儲膠槽為沿著所述硅片承載平面的圓心向內開設的凹槽，并且所述儲膠槽的槽壁為向內凹進的圓弧形，所述凸臺位于所述儲膠槽的中間；所述真空吸片結構包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸臺內，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm；所述傘狀保護結構安裝在所述凸臺的頂部，并位于所述儲膠槽內。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述儲膠槽呈圓形碗體結構。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述凸臺呈圓臺型結構，并且所述凸臺的頂端設有安裝孔。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述傘狀保護結構包括：安裝軸和保護傘體，所述安裝軸的下端安裝在所述安裝孔中，所述保護傘體位于所述安裝軸的上端。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心在同一垂直線上。

本實用新型的有益效果是：本實用新型一種新型勻膠機托盤結構，沿著硅片承片臺的圓心向內開設一圓形碗體結構的儲膠槽，其槽壁為向內凹進的圓弧形，使光刻膠在甩動過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲膠槽中，并且該儲膠槽具有儲膠量大的特點，能儲存較多的光刻膠，同時圓弧形槽壁能防止光刻膠在離心力作用下再次被甩出，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導致的吸力不足或堵塞；并且在凸臺的頂部安裝有傘狀保護結構，一方面保護真空吸片口，徹底防止膠滴滴入，另一方面改變氣流方向，空氣從側下方往中間抽，使儲膠槽和硅片背面形成的真空腔體內形成一定的氣壓差，有效防止儲膠槽中的光刻膠在運動過程中回流至硅片背面。

附圖說明

圖1是現有勻膠機托盤結構示意圖；

圖2是本實用新型一種新型勻膠機托盤結構一較佳實施例的結構示意圖；

圖3是圖2所示處于工作狀態的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、硅片承片臺，2、真空吸片結構，3、傘狀保護結構，4、硅片，10、硅片承載平面，11、儲膠槽，12、凸臺，20、上端，21、真空吸片口，30、安裝軸，31、保護體，110、槽壁，120、安裝孔，H、真空吸片口與硅片承載平面間的垂直距離。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖2和圖3，本實用新型實施例包括：