[實用新型]一種調溫裝置有效
| 申請號: | 201320830937.2 | 申請日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN203728923U | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發明(設計)人: | 黃國興;孫桂紅;祝海生;黃樂;梁紅;吳永光 | 申請(專利權)人: | 湘潭宏大真空技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 411101 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 調溫 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及溫控裝置技術領域,具體說,是涉及一種調溫裝置。?
背景技術
真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾燈許多優于固體材料本身的優越性能,達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。?
在真空鍍膜生產線中需要對基片進行調溫,鍍膜前加熱室對濺射鍍膜的真空度及工藝氣氛平衡,及對玻璃基片進行加熱升溫。當基片在鍍膜之前需要對基片加熱,這樣在鍍膜腔內易于鍍膜,而在鍍膜完成后,需要使基片冷卻,這樣便于卸基片和保持基片不變形。然而在現有技術中,通常對基片的加熱和冷卻是分開的,當真空鍍膜生產線中各腔室的位置調換時,基片的加熱腔和冷卻腔同時需要調換,這樣浪費人力物力。因此,亟需一種可同時加熱和冷卻,但加熱冷卻互不影響的調溫裝置。?
發明內容
針對現有技術存在的上述問題,本實用新型的目的是提供一種調溫裝置,該調溫裝置具有加熱和冷卻功能,加熱和冷卻互不影響。?
為實現上述發明目的,本實用新型采用的技術方案如下:?
一種調溫裝置,包括:?
一固定組件,固定組件包括一固定板和至少兩個定位座,定位座固定在固定板上;?
一調溫組件,調溫組件安裝在固定組件上,調溫組件包括一加熱器、一冷卻器和一控制器,加熱器和冷卻器與控制器連接,加熱器和冷卻器安裝在固定組件的定位座上;?
加熱器進一步包括一加熱管道和一加熱件,加熱件設置在加熱管道內;?
冷卻器包括一冷卻管道和一冷卻件,冷卻件與冷卻管道連接;?
定位座包括至少一個安置槽和至少一個隔離樁,安置槽和隔離樁交叉放置,每兩個安置槽中間為一隔離樁,每兩個隔離柱中間為一安置槽;加熱管道和冷卻管道安裝在定位座的安置槽上。?
進一步,加熱管道進一步包括一第一加熱管道端部、一第二加熱管道端部和加熱通管,加熱通管連接第一加熱管道端部和第二加熱管道端部,第一加熱管道端部和第二加熱管道端部并排放置。?
更進一步,加熱件進一步包括一電阻絲、一絕緣元件和一加熱器開關,絕緣元件包裹電阻絲,絕緣元件和電阻絲填充在加熱管道內,加熱器開關與電阻絲和控制器連接。?
更進一步,加熱器開關設置在第一加熱管道端部,加熱器開關控制電阻絲的通電狀態。?
更進一步,第一加熱管道端部和第二加熱管道端部內的電阻絲通過控制器與電源連接,填充在加熱管道內的電阻絲通電后發熱,對空氣進行加熱。?
更進一步,冷卻管道包括一第一冷卻管道端部、一第二冷卻管道端部和冷卻通管,冷卻通管連接第一冷卻管道端部和第二冷卻管道端部,第一冷卻管道端部和第二冷卻管道端部并排放置。?
更進一步,冷卻件進一步包括一供水裝置、一集水裝置和一冷卻開關,冷卻開關設置在供水裝置上,冷卻開關控制供水裝置的供水,冷卻開關與控制器連接,供水裝置與冷卻管道的第一冷卻管道端部連接,集水裝置與第二冷卻管道端部連接,供水裝置提供水從第一冷卻管道端部進入冷卻管道中,經冷卻通管流通,從第二冷卻管道流出進入集水裝置。?
更進一步,為循環用水,集水裝置與供水裝置為連通的,集水裝置聚集的水進入供水裝置中循環利用。?
進一步,控制器進一步包括一溫度感應元件和一控制元件,溫度感應元件與控制元件連接,控制元件與加熱開關和冷卻開關連接。?
更進一步,控制器進一步包括一顯示屏,顯示屏與控制元件連接,顯示屏顯示溫度感應元件感應的溫度。?
更進一步,加熱管道和冷卻管道分層安裝在定位座的安置槽上。?
更進一步,加熱管道和冷卻管道在定位座的安置槽中安裝高度一致。?
更進一步,加熱管道和冷卻管道對應安裝在定位座的安置槽上。?
更進一步,加熱管道和冷卻管道錯開安裝在定位座的安置槽上。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湘潭宏大真空技術股份有限公司,未經湘潭宏大真空技術股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320830937.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





