[實(shí)用新型]高溫條件下SHPB自動(dòng)對(duì)桿沖擊加載實(shí)驗(yàn)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320828923.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203688372U | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方秦;陳力;阮征;姜錫權(quán);張錦華;張亞棟;相恒波;于瀟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N3/30 | 分類號(hào): | G01N3/30;G01N1/44 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 吳茂杰;朱顯國(guó) |
| 地址: | 210007 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高溫 條件下 shpb 自動(dòng) 沖擊 加載 實(shí)驗(yàn) 裝置 | ||
1.一種高溫條件下SHPB自動(dòng)對(duì)桿沖擊加載實(shí)驗(yàn)裝置,包括高壓氣罐(1)、入射桿(7)、透射桿(15)、用于放置入射桿(7)、透射桿(15)及試件的底座(14)和試件加熱裝置(10),其特征在于:
所述試件加熱裝置(10)與底座(14)分離設(shè)置,加熱裝置(10)與底座(14)間設(shè)有導(dǎo)引試件從加熱裝置到底座(14)的寬度可調(diào)的試件導(dǎo)軌(12),在底座(14)上與試件導(dǎo)軌(12)相對(duì)的試件的另一側(cè)設(shè)有限定試件位置的試件擋桿(20),所述底座(14)三維可調(diào)。
2.如權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:在所述底座(14)試件固定位置的前后側(cè)各設(shè)至少一探測(cè)試件就位的光電傳感器(211、212),所述光電傳感器(211、212)通過(guò)延時(shí)繼電器(22)與控制高壓氣罐(1)氣路的電磁閥(2)相連。
3.如權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述入射桿(7)遠(yuǎn)離試件一端正對(duì)與之同軸的子彈(4),所述子彈(4)設(shè)于子彈發(fā)射機(jī)構(gòu)(3)內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述入射桿(7)和透射桿(15)上均貼有應(yīng)變片(61、62),所述應(yīng)變片(61、62)與數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(16)相連。
5.如權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:還包括子彈出發(fā)接觸式開關(guān)(13),其通過(guò)固態(tài)繼電器(23)與控制高壓氣罐(1)氣路的電磁閥(2)相連,所述子彈出發(fā)接觸式開關(guān)(13)的動(dòng)觸點(diǎn)(131)設(shè)在入射桿(7)上、靜觸點(diǎn)(132)設(shè)在透射桿(15)上,入射桿(7)與透射桿(15)頂緊試件后,該動(dòng)觸點(diǎn)(131)與靜觸點(diǎn)(132)閉合。
6.如權(quán)利要求5所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述固態(tài)繼電器(23)采用3V電壓控制24V電壓。
7.如權(quán)利要求1至6之一所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述入射桿(7)中部套裝一張緊箍環(huán)(9),張緊箍環(huán)(9)與入射桿(7)間墊以橡膠薄片,張緊箍環(huán)(9)外套裝入射桿氣缸(8)。
8.如權(quán)利要求1至6之一所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述透射桿(15)遠(yuǎn)離試件一端設(shè)有與透射桿(15)同軸的吸收桿(17),吸收桿(17)遠(yuǎn)離透射桿(15)一端正對(duì)透射桿氣缸(19)內(nèi)的活塞(18)的輸出端。
9.如權(quán)利要求1至6之一所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述加熱裝置(10)為微波爐。
10.如權(quán)利要求1至6之一所述的實(shí)驗(yàn)裝置,其特征在于:所述底座(14)的試件固定位置設(shè)有耐火材料。
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