[實用新型]一種化學機械研磨墊有效
| 申請號： | 201320823999.0 | 申請日： | 2013-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN203611120U | 公開（公告）日： | 2014-05-28 |
| 發明（設計）人： | 唐強;馬智勇 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 李儀萍 |
| 地址： | 100176 北京市大興*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械 研磨 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械研磨墊，其特征在于，所述化學機械研磨墊至少包括：
具有一個旋轉中心的研磨墊本體，其由底層和表層兩層構成；
設于所述表層內的、用于分布拋光液的若干溝槽，所述溝槽的截面為若干以研磨墊本體的旋轉中心為圓心的同心圓環，所述溝槽的橫截面為設有倒角的U型溝槽。
2.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述設于研磨墊中間區域的溝槽的寬度d1小于研磨墊邊緣區域的溝槽的寬度d2。
3.根據權利要求2所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述寬度d1為5～15密耳，所述d2為15～50密耳；所述倒角的斜長L為1～3密耳。
4.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述溝槽的深度h為5～10密耳。
5.根據權利要求1所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述設于研磨墊中間區域的溝槽之間的間距d3大于設于研磨墊邊緣區域的溝槽之間的間距d4。
6.根據權利要求5所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述設于研磨墊中間區域的溝槽之間的間距d3為80～120密耳；所述設于研磨墊邊緣區域的溝槽之間的間距d4為60～80密耳。
7.根據權利要求1或2所述的化學機械研磨墊，其特征在于：所述分布于研磨墊中間區域的溝槽為20～25條；所述分布于研磨墊邊緣區域的溝槽為3～5條。
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