[實(shí)用新型]一種線性恒流器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320823442.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203659862U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉宗賀;張鵬;鄒有彪;王泗禹;耿開(kāi)遠(yuǎn);周健;李建新 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 啟東吉萊電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/06 | 分類號(hào): | H01L27/06 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人: | 盧海洋 |
| 地址: | 226200 江蘇省南*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 線性 器件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種線性恒流器件。
背景技術(shù)
線性恒流器件是一種在電源電壓、溫度、負(fù)載等發(fā)生波動(dòng)的情況下仍能給負(fù)載提供恒定電流的半導(dǎo)體器件,廣泛應(yīng)用在LED驅(qū)動(dòng)器、恒定電源、充電器等電子設(shè)備中。常見(jiàn)的線性恒流器有:基于耗盡型MOSFET、JFET等場(chǎng)效應(yīng)器件的線性恒流器、基于三極晶體管的線性恒流器、基于模擬集成電路(如電流源、運(yùn)算放大器)的線性恒流器。相對(duì)于三極管型恒流器,基于JFET的線性恒流器具有受溫度影響小、厄利效應(yīng)小的優(yōu)點(diǎn);相對(duì)于模擬集成電路型的線性恒流器,基于JFET的線性恒流器具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)制作成本低、使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型需要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種線性恒流器件。?
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種線性恒流器件,包括P型硅片,?P型硅片的背面為金屬化陰極電極、正面生長(zhǎng)有P型外延層,?P型外延層上有RING區(qū)和NWELL區(qū),?NWELL區(qū)中有若干并排的N-區(qū),每個(gè)N-區(qū)的中間有N+區(qū),每相鄰兩個(gè)N-區(qū)之間有一個(gè)柵區(qū),?N+區(qū)以間隔的方式分別與陽(yáng)極電極或金屬電極Ⅰ相連;?NWELL區(qū)還設(shè)有一個(gè)大的N+區(qū),該大的N+區(qū)一端、與其相鄰的N+區(qū)及其之間的NWELL區(qū)的表面與金屬電極Ⅱ相連,該大的N+區(qū)另一端、P型外延層一端RING區(qū)及其之間的NWELL區(qū)和P型外延層的表面與金屬電極Ⅲ相連,整個(gè)P型外延層表面除陽(yáng)極電極、金屬電極Ⅰ、金屬電極Ⅱ和金屬電極Ⅲ覆蓋的區(qū)域外所有區(qū)域覆蓋有氧化層。
本實(shí)用新型的線性恒流器件基于JFET,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)制作成本低、恒流特性好、使用方便、器件工作電壓范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
圖1是本實(shí)用新型中線性恒流器件的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本實(shí)用新型中線性恒流器件的等效電路圖。
其中,1、P型硅片,2、P型外延層,3、氧化層,4、RING區(qū),5、NWELL區(qū),6、柵區(qū),7、N-區(qū),8、N+區(qū),9或A、陽(yáng)極電極,10或K、陰極電極,11、金屬電極Ⅰ,12、金屬電極Ⅱ,13、金屬電極Ⅲ。
具體實(shí)施方式:
如圖1所示,一種線性恒流器件,包括P型硅片1,?P型硅片1的背面為金屬化陰極電極10、正面生長(zhǎng)有P型外延層2,?P型外延層2上有RING區(qū)4和NWELL區(qū)5,?NWELL區(qū)5中有若干并排的N-區(qū)7,每個(gè)N-區(qū)7的中間有N+區(qū)8,每相鄰兩個(gè)N-區(qū)7之間有一個(gè)柵區(qū)6,?N+區(qū)8以間隔的方式分別與陽(yáng)極電極9或金屬電極Ⅰ11相連;?NWELL區(qū)5還設(shè)有一個(gè)大的N+區(qū)8′,該大的N+區(qū)8′一端、與其相鄰的N+區(qū)8及其之間的NWELL區(qū)5的表面與金屬電極Ⅱ12相連,該大的N+區(qū)8′另一端、P型外延層2一端RING區(qū)4及其之間的NWELL區(qū)5和P型外延層2的表面與金屬電極Ⅲ13相連,整個(gè)P型外延層2表面除陽(yáng)極電極9、金屬電極Ⅰ11、金屬電極Ⅱ12和金屬電極Ⅲ13覆蓋的區(qū)域外所有區(qū)域覆蓋有氧化層3。
此外,該線性恒流器件的半導(dǎo)體材料P型硅片1還可以是SOI、碳化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦以及鍺硅的替代。
本實(shí)用新型中線性恒流器件的等效電路如圖2所示:該線性恒流器件由一個(gè)結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管JFET和一個(gè)電阻R構(gòu)成,電阻R的兩端分別與JFET的源極和柵極相連,JFET的漏極作為線性恒流器件的陽(yáng)極電極A,JFET的柵極作為線性恒流器件的金屬化陰極電極K,電阻R上的壓降對(duì)JFET形成自偏置負(fù)反饋效應(yīng)從而維持線性恒流器件的輸出電流恒定。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





