[實用新型]用于制備氰化氫的反應(yīng)組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320818367.5 | 申請日: | 2013-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN203683107U | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 約翰·C·卡頓;布蘭特·J·斯塔爾曼;洛基·王 | 申請(專利權(quán))人: | 英威達(dá)科技公司 |
| 主分類號: | C01C3/02 | 分類號: | C01C3/02 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;劉華聯(lián) |
| 地址: | 瑞士圣*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制備 氰化氫 反應(yīng) 組件 | ||
1.一種用于制備氰化氫的反應(yīng)組件,包括:
(a)用于產(chǎn)生三元?dú)怏w混合物的包括狹長管道的混合容器,所述狹長管道包括:
i.位于所述狹長管道的下游端處的出口;
ii.內(nèi)壁;
iii.包括第一進(jìn)入端口和位于所述第一進(jìn)入端口的下游的第一流動校正器的第一靜態(tài)混合區(qū)域,所述第一進(jìn)入端口用于將從由含甲烷的氣體、含氨氣體、含氧氣體及其混合物所構(gòu)成的組中選擇的至少一種反應(yīng)氣體引入到所述混合容器中;以及
iv.位于所述第一靜態(tài)混合區(qū)域的下游的第二靜態(tài)混合區(qū)域,包括用于引入含氧氣體的第二進(jìn)入端口和位于所述第二進(jìn)入端口的下游的第二流動校正器;
其中,所述第二流動校正器包括一個或多個安裝到中間體上的徑向板,其中所述一個或多個徑向板在所述狹長管道中縱向地延伸,并且所述中間體從上游點向下游基底朝向所述內(nèi)壁向外地漸變;以及
(b)反應(yīng)容器,其包括操作性連接到所述出口以接收所述三元?dú)怏w混合物的反應(yīng)器入口,其中所述反應(yīng)容器包括含有用于制備氰化氫流的催化劑的催化劑床。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,各所述流動校正器包括一個到十個徑向板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,各所述流動校正器具有一體式結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述一個或多個徑向板連接到所述內(nèi)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述一個或多個徑向板連接到圓形環(huán)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述中間體為空心的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述中間體的下游基底為圓形、三角形、方形、菱形、矩形、五角形或六角形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述中間體是具有5°到65°的錐角的圓錐形中間體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述中間體同心地置于所述狹長管道內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述下游基底具有從0.1*x到0.5*x的最大直徑,其中x為所述一個或多個徑向板的徑向長度。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述一個或多個徑向板具有從0.05*y到0.3*y的高度,其中y是管道直徑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述一個或多個徑向板具有圓形的上游邊緣。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述第一流動校正器包括一個或多個安裝到中間體上的徑向板,其中所述一個或多個徑向板在所述狹長管道中縱向地延伸,并且所述中間體從上游點向下游基底朝向所述內(nèi)壁向外地漸變。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述第一靜態(tài)混合區(qū)域和第二靜態(tài)混合區(qū)域均還包括多個靜態(tài)混合元件。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的反應(yīng)組件,其特征在于,所述多個靜態(tài)混合元件包括多個突片嵌件,所述突片嵌件具有在流動方向上彎折的上游表面。
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