[實用新型]一種半導體激光器巴條的器件性能測量裝置

有效

• 申請號: 201320811261.2
• 申請日: 2013-12-11
• 公開（公告）號: CN203629792U
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 周旻超;吳濤;李江
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 曹毅

1.一種半導體激光器巴條的器件性能測量裝置，其特征在于，包括快軸準直微透鏡（1），所述快軸準直微透鏡（1）前面設置有分光板（2），所述分光板（2）的兩側分別設置有巴條彎曲度及近場光強分布測試模塊和巴條空間光譜分布測試模塊，所述巴條彎曲度及近場光強分布測試模塊和所述巴條空間光譜分布測試模塊都和計算機（11）連接。

2.根據權利要求1所述的半導體激光器巴條的器件性能測量裝置，其特征在于，所述巴條彎曲度及近場光強分布測試模塊包括第一慢軸準直透鏡（301），第一成像透鏡（401）和第一CCD相機（501），所述第一慢軸準直透鏡（301）設置在所述分光板（2）的一側，所述第一慢軸準直透鏡（301）前面設置有所述第一成像透鏡（401），所述第一成像透鏡（401）前面設置有所述第一CCD相機（501），所述第一CCD相機（501）和所述計算機（11）連接。

3.根據權利要求1所述的半導體激光器巴條的器件性能測量裝置，其特征在于，所述巴條空間光譜分布測試模塊包括第二慢軸準直透鏡（302），所述第二慢軸準直透鏡（302）設置在所述分光板（2）的另一側，所述第二慢軸準直透鏡（302）前面設置有可調節吸收式衰減片（6），所述可調節吸收式衰減片（6）前面設置有第一反射鏡（701），所述第一反射鏡（701）前面設置有第二反射鏡（702），所述第二反射鏡（702）前面設置有分光鏡（8），所述分光鏡（8）前面設置有長波長透射模塊和短波長反射模塊，所述短波長反射模塊包括第一分光棱鏡（901），所述第一分光棱鏡（901）前面設置有第二成像透鏡（402），所述第二成像透鏡（402）前面設置有第一遮光筒（1001），所述第一遮光筒（1001）前面設置有第二CCD相機（502），所述第二CCD相機（502）與所述計算機（11）連接，所述長波長透射模塊包括第三反射鏡（703），所述第三反射鏡（703）前面設置有第二分光棱鏡（902），所述第二分光棱鏡（902）前面設置有第三成像透鏡（403），所述第三成像透鏡（403）前面設置有第二遮光套筒（1002），所述第二遮光套筒（1002）前面設置有第三CCD相機（503），所述第三CCD相機（503）與所述計算機（11）連接。