[實用新型]一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置

有效

• 申請號: 201320807059.2
• 申請日: 2013-12-07
• 公開（公告）號: CN203582958U
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 金烈
• 申請（專利權）人: 深圳市金凱新瑞光電有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/22;B08B7/00
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

1.一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，包括有鍍膜設備中用來清洗的真空室，其特征在于：該真空室為凹型容腔，真空室上部的開口對應待清洗的鍍膜基板；真空室的底部安裝有用來抽真空的真空機構，在真空室內固定設有絕緣支撐件，在絕緣支撐件上設有用來提供清潔氣體的布氣孔，在絕緣支撐件上還分別間隔設有兩個電極，兩個電極分別通過各自的電源線與外部的高壓中頻電源電連接；工作時，在接通高壓中頻電源的兩個電極作用下使清潔氣體形成等離子體，所述鍍膜基板位于該等離子體范圍之內。

2.根據權利要求1所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述絕緣支撐件由絕緣支撐柱和絕緣支撐座組成，絕緣支撐柱固定在真空室的底部，絕緣支撐座連接在絕緣支撐柱上，絕緣支撐座的中心開設有通氣槽，所述兩個電極沿通氣槽平行對稱分布在絕緣支撐座的頂面，所述布氣孔的位于通氣槽中。

3.根據權利要求2所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述真空室上部的開口邊緣設有隔離罩，隔離罩的頂面與鍍膜基板之間形成足夠小的通氣小間隙使得所述真空室通過該通氣小間隙與鍍膜設備內的大真空腔相通而不影響彼此獨立的真空度。

4.根據權利要求3所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述清潔氣體為氬氣和氧氣的混合氣體，氬氣占混合氣體的體積百份比的范圍在3%-20%范圍之內。

5.根據權利要求4所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述高壓中頻電源為工作電壓在3000V-5000V范圍之內，電流在0.5A-3.5A范圍之內，頻率在40khz-200khz范圍之內。

6.根據權利要求5所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述真空室的底部還設有用來排除清洗過程中產生水氣的低溫水氣泵。

7.根據權利要求6所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述兩個電極通過電極支撐板連接在絕緣支撐座上，所述兩個電極旁還分別設有用來冷卻電極的冷卻水管。

8.根據權利要求7所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述兩電極采用低濺射率金屬材料作為離子源放電電極。

9.根據權利要求8所述的一種應用在鍍膜設備中的離子源清洗裝置，其特征在于：所述兩電極采用Ti或Al或Mo作為離子源放電電極。