[實用新型]聚合反應裝置有效
| 申請號: | 201320792117.9 | 申請日: | 2013-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN203768279U | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 柿木道夫;柴田修作;福島徹 | 申請(專利權)人: | 株式會社吳羽 |
| 主分類號: | C08F14/06 | 分類號: | C08F14/06;C08F14/08;C08F2/01 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚合 反應 裝置 | ||
1.一種聚合反應裝置,其特征在于包括:?
聚合槽,使單體聚合;?
單體供給配管,對所述聚合槽供給所述單體;?
球閥,與所述單體供給配管連接,切換是否對所述聚合槽供給所述單體;?
單體供給單元,與所述單體供給配管連接,經由該單體供給配管和所述球閥對所述聚合槽供給所述單體;?
清洗液供給單元,供給清洗所述球閥的清洗液;?
清洗液供給配管,連接在所述清洗液供給單元和所述球閥,對所述球閥供給所述清洗液;以及?
第一控制單元,該第一控制單元進行以下控制:在所述單體供給單元對所述聚合槽不供給所述單體時,使所述清洗液供給單元將所述清洗液供給至所述球閥;且?
所述球閥包括主體部和球體部,?
所述單體供給配管與所述主體部連接,?
所述清洗液供給配管對所述球閥中的所述主體部與所述球體部的間隙供給所述清洗液。?
2.根據權利要求1所述的聚合反應裝置,其特征在于:在所述主體部與所述球體部之間的間隙設置著密封該間隙的密封構件,所述間隙是所述主體部中的與供所述單體通過的部分接觸的間隙。?
3.根據權利要求1或2所述的聚合反應裝置,其特征在于:還包括第二控制單元,該第二控制單元進行以下控制:在所述單體供給單元未對所述聚合槽供給所述單體時,將清洗所述單體供給配管和所述球閥的清洗液供給至所述單體供給配管和與該單體供給配管連接的所述主體部。?
4.根據權利要求3所述的聚合反應裝置,其特征在于:設置著多個所述球閥和所述聚合槽,?
多個所述球閥均為三向閥型的閥,?
多個所述球閥分別經由所述單體供給配管而與一個所述聚合槽?連接,?
多個所述球閥分別經由所述單體供給配管而串列連接,且?
所述聚合反應裝置還包括第三控制單元,該第三控制單元在所述單體供給單元將預定量的所述單體供給至一個所述聚合槽之后,對經由所述單體供給配管而與一個該聚合槽連接的所述球閥進行切換,由此,經由所述單體供給配管將所述單體供給至其他所述聚合槽。?
5.根據權利要求4所述的聚合反應裝置,其特征在于:在所述單體供給單元將所述單體供給至一個所述聚合槽后且在將所述單體供給至其他所述聚合槽之前,將所述清洗液供給至所述單體供給配管和與該單體供給配管連接的所述主體部,?
將供給至該單體供給配管和該主體部的所述清洗液供給至一個所述聚合槽。?
6.根據權利要求1或2所述的聚合反應裝置,其特征在于:所述清洗液供給單元經由所述清洗液供給配管而將所述清洗液從鉛垂上方供給至所述主體部與所述球體部的間隙。?
7.根據權利要求1或2所述的聚合反應裝置,其特征在于:設置著多個所述清洗液供給配管,且將所述清洗液從多個部位供給至所述主體部與所述球體部的間隙。?
8.根據權利要求1或2所述的聚合反應裝置,其特征在于還包括:?
清洗液排出配管,將對所述主體部與所述球體部的間隙進行清洗之后的所述清洗液排出;及?
檢測單元,與所述清洗液排出配管連接,通過測定靜電電容來檢測在排出的所述清洗液中是否含有雜質。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社吳羽,未經株式會社吳羽許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320792117.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





