[實用新型]一種用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320782705.4
• 申請日: 2013-12-02
• 公開（公告）號: CN203890490U
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴小林;崔彬;劉大力;姜艦;李洋;吳志強;汪麗都
• 申請（專利權(quán)）人: 有研新材料股份有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00;C30B29/06
• 代理公司: 北京北新智誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100
• 代理人: 劉秀青;熊國裕

1.一種用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，該裝置安裝在直拉硅單晶爐的熱場上方，包括環(huán)形布置的數(shù)個氣嘴，該數(shù)個氣嘴圍繞晶體軸呈對稱分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述數(shù)個氣嘴以法蘭的方式安裝單晶爐的爐蓋的下方，氣嘴的噴孔朝向爐底。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，在單晶爐的爐蓋的下方安裝一掛筒，所述數(shù)個氣嘴布置在該掛筒的內(nèi)壁上，氣嘴的噴孔朝向晶體軸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述氣嘴的截面形狀為圓形、橢圓形、正方形、長方形或其它不規(guī)則的形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述氣嘴的截面面積為1～350mm²。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述氣嘴的數(shù)量為2～500個。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述氣嘴的個數(shù)為12個。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，所述氣嘴的邊緣形狀為有倒角的或者為圓弧狀的。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的用于直拉硅單晶爐的氬氣簾裝置，其特征在于，通過所有氣嘴的氬氣的總流量為10～300slpm。