[實(shí)用新型]大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320782148.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203577358U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳軼光;顧燕新;余曉赟;孫磊磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州杭氧股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D3/16 | 分類號(hào): | B01D3/16 |
| 代理公司: | 浙江永鼎律師事務(wù)所 33233 | 代理人: | 陸永強(qiáng) |
| 地址: | 311300 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大型 特大型 塔式 容器 新型 氣體 分布 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于空分精餾設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及氣體分布裝置,尤其是涉及一種大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置。
背景技術(shù)
隨著我國(guó)工業(yè)的快速發(fā)展,鋼鐵冶煉、石油化工、煤化工、大化肥等企業(yè)對(duì)氧氬氮的需求量急劇增加,從而帶動(dòng)精餾塔向著大型及特大型化發(fā)展,而氣體和液體在塔內(nèi)的均勻分布是塔器放大的主要問(wèn)題。同時(shí),隨著填料技術(shù)的不斷進(jìn)步,大空隙率、低壓降新型高效填料的開(kāi)發(fā),都對(duì)氣體初始分布的要求越來(lái)越高,氣體分布裝置的優(yōu)劣直接影響塔器精餾效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
目前,對(duì)于精餾設(shè)備中氣體均布主要通過(guò)開(kāi)孔或加導(dǎo)流板的直管,或者是加導(dǎo)流板的環(huán)流型氣體分布裝置來(lái)實(shí)現(xiàn),由于氣體從不同位置的小孔或?qū)Я靼辶鞒觯ㄟ^(guò)每個(gè)小孔或?qū)Я靼宓牧髁烤煌⑶曳植计魃w板上方有大面積的渦流存在,所以此類分布器較難達(dá)到很好的氣體均布效果。同時(shí),此類氣體分布器進(jìn)口管截面的氣體分布均勻度對(duì)分布器的分布效果也有很大的影響,因此,對(duì)進(jìn)口管前的管路布置也有一定的要求,增加了管路布置的復(fù)雜程度,同時(shí)也增加了人力和物力的消耗。
為了改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,人們進(jìn)行了長(zhǎng)期的探索,提出了各種各樣的解決方案。例如,中國(guó)專利文獻(xiàn)公開(kāi)了一種塔器的氣體分布裝置[申請(qǐng)?zhí)枺?01220320561.6],包括由至少一組合件組成的氣體分布層,組合件包括第一環(huán)體、第二環(huán)體、第三環(huán)體和第四環(huán)體,第一環(huán)體的外壁通過(guò)第一支板、第二支板、第三支板分別與第二環(huán)體、第三環(huán)體和第四環(huán)體的外壁相連,所述第二環(huán)體的外壁通過(guò)第四支板與第三環(huán)體的外壁相連,第三環(huán)體的外壁通過(guò)第五支板與第四環(huán)體的外壁相連,第一環(huán)體和第三環(huán)體的外壁上均布有三個(gè)支腳,第三環(huán)體的其中一支腳上設(shè)有凸鎖槽,第二環(huán)體和第四環(huán)體的外壁上均布有四個(gè)支腳,第二環(huán)體的其中一支腳上設(shè)有與所述凸鎖槽相匹配的凸鎖扣。
上述方案對(duì)現(xiàn)有塔器的氣體分布技術(shù)有所改善,一定程度上使得氣體分布較均勻,提高了填料和塔器的使用效率。然而,上述方案不僅結(jié)構(gòu)復(fù)雜,氣流損耗嚴(yán)重,增加了設(shè)備成本,而且均布效果不佳,容易發(fā)生偏流,同時(shí)塔器內(nèi)容易產(chǎn)生渦流現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種設(shè)計(jì)合理,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能夠?qū)崿F(xiàn)氣體的均勻分布,防止渦流現(xiàn)象發(fā)生,減少預(yù)分布空間,節(jié)約投資成本的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置。該裝置適用于多種形式的塔式容器,并克服了分布裝置進(jìn)口管截面的氣體分布均勻度對(duì)分布裝置分布效果的影響,同時(shí)成功解決了分布裝置蓋板上方存在渦流的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)均布的目的。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用了下列技術(shù)方案:本大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,設(shè)置在具有進(jìn)氣通道的塔式容器內(nèi),包括具有中心通道的內(nèi)筒,所述的內(nèi)筒的兩端部分別設(shè)有呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板和底板,且內(nèi)筒、頂板和底板能與塔式容器的塔壁合圍形成封閉的環(huán)形氣體通道,所述的環(huán)形氣體通道內(nèi)豎直設(shè)有能將該環(huán)形氣體通道隔斷的導(dǎo)流機(jī)構(gòu),所述的導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的對(duì)稱軸位于塔式容器進(jìn)氣通道的中心截面上,所述的頂板上均勻設(shè)有若干出氣結(jié)構(gòu),所述的底板上設(shè)有若干周向均勻分布的均布孔。導(dǎo)流機(jī)構(gòu)的設(shè)置使得氣體的分布均勻,環(huán)形氣體通道內(nèi)氣體的壓力處處相等,能夠有效避免渦流現(xiàn)象發(fā)生。
進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,每個(gè)所述的出氣結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在頂板上的開(kāi)孔。這里的出氣結(jié)構(gòu)可以根據(jù)實(shí)際出氣需要采取多種各樣的替代方式,均勻分布的開(kāi)孔能夠使得出氣更加均勻。
更進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的開(kāi)孔上端連接有出氣管。出氣管的設(shè)置能夠?qū)怏w形成較好的導(dǎo)流作用。
再進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的出氣管上設(shè)有擋液罩。擋液罩的設(shè)置有利于氣液分離,也能夠防止液體倒流,進(jìn)一步減少渦流現(xiàn)象發(fā)生的概率。
在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)沿著遠(yuǎn)離內(nèi)筒的方向漸窄。這種結(jié)構(gòu)能夠減少氣體的沿程阻力,達(dá)到更好的導(dǎo)流效果。
作為一種較為優(yōu)化的技術(shù)方案,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)兩側(cè)均具有弧形導(dǎo)流面。弧形導(dǎo)流面的設(shè)置能夠使得氣體的沿程阻力降到最低,當(dāng)然,這里的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)也可以根據(jù)導(dǎo)流需要采用其他的替代方式。
在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)的中心線位于內(nèi)筒的中心截面上。這種結(jié)構(gòu)能夠保證環(huán)形氣體通道內(nèi)的氣體分布均勻。
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