[實(shí)用新型]一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)及一種便于制作的凹面閃耀光柵有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320767780.3 | 申請(qǐng)日： | 2013-11-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203838359U | 公開（公告）日： | 2014-09-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周倩;田瑞;庾健航 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東莞市金達(dá)照明有限公司;清華大學(xué)深圳研究生院 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/18 | 分類號(hào)： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人： | 雷利平 |
| 地址： | 523050 廣東*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 制作 凹面 閃耀 光柵 基材 結(jié)構(gòu) 便于 | ||
1.一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，包括凹面光柵基底，其特征在于：還包括可分離粘接于所述凹面光柵基底的工作面上的可彎曲形變的軟膜。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述軟膜為PDMS材料制成的軟膜。
3.如權(quán)利要求1所述的一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凹面光柵基底與軟膜之間鍍有分離層。
4.如權(quán)利要求3所述的一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述分離層是由硅油膜制成的的分離層。
5.如權(quán)利要求3所述的一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述分離層上設(shè)置有反射層。
6.如權(quán)利要求1所述的一種用于制作凹面閃耀光柵的基材結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述凹面光柵基底是由玻璃材料制成的凹面光柵基底。
7.一種便于制作的凹面閃耀光柵，包括凹面光柵基底，其特征在于：還包括固定于所述凹面光柵基底的工作面上的可彎曲形變的軟膜光柵，所述軟膜光柵在平面基板上經(jīng)離子束蝕刻成型其光柵結(jié)構(gòu)。
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