[實用新型]一種新型流體分布器

有效

• 申請號: 201320767759.3
• 申請日: 2013-11-29
• 公開（公告）號: CN203700333U
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 畢生雷;杜風光;孫沛勇;喬建援;張喆;丁凌飛;鄭世文;金洪波;趙玉峰;薛寶;鄭彬;尹永磊
• 申請（專利權）人: 河南天冠企業集團有限公司
• 主分類號: C12M1/00
• 分類號: C12M1/00
• 代理公司: 鄭州紅元帥專利代理事務所(普通合伙) 41117
• 代理人: 季發軍

技術領域

本實用新型涉及一種生物化工領域的流體分布器，特別涉及一種高濃度發酵醪的新型流體分布器。

背景技術

在實際生產過程中，高濃度的發酵醪經常會由于各種原因堵塞分布器，堵塞以后通常的作法就是拆發酵罐的封頭、拆分布器，這不僅耽誤生產、增加成本，而且會對設備或發酵過程產生嚴重的影響。

實用新型內容

為了解決現有技術中存在的上述問題，本實用新型提供了一種避免堵塞、減少拆封頭和拆分布器的新型流體分布器。

為了實現上述發明目的，本實用新型的技術方案是：一種新型流體分布器，包括固定蓋和與之通過彈性機構連接的分布器。

所述彈性機構為穿過固定蓋與分布器連接的螺桿，該螺桿上套裝有彈簧。

所述螺桿周側設置凹槽。

所述凹槽為的縱切面為弧形或圓弧或形半圓形。

所述分布器下設置再分布器。

所述固定蓋通過連接件固定于發酵罐罐壁上。

所述螺桿穿過固定蓋的長度為螺桿總長的1/4-1/3。

所述再分布器固定在發酵罐罐壁上。

有益效果：1、本實用新型分布器與罐體結合良好，安裝方便，不影響發酵罐的整體結構；2、本實用新型分布器在流體正常流動時通過分布器與再分布器可以更均勻的分布流體、可以減緩流體的流速，從而降低對固定化酵母制備過程的影響；3、本實用新型分布器，在高濃度發酵醪或者其攜帶雜質堵塞分布器后，會通過壓縮，使分布器下移，從而使螺紋露出來排出發酵醪，排出的發酵醪在流過固定端上沿后通過再分布器均勻流下去；如果上述過程不能減緩堵塞，彈簧進一步壓縮，當超過其總長的1/4-1/3時，分布器上沿會下移到固定端下方，此時發酵醪通過分布器上沿與固定端中間的間距流到再分布器，然后通過再分布器均勻流下去；整個過程始終保持平穩的流體分布，不會對吸附介質造成沖擊。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型作進一步描述：

圖1是本實用新型的縱剖結構示意圖；

圖2是本實用新型發生堵塞時的縱剖結構示意圖；

圖3是本實用新型發生嚴重堵塞的縱剖結構示意圖；

圖4是本實用新型的螺桿縱剖放大結構示意圖。

具體實施方式

實施例1：如圖1、2、3、4所示，一種新型流體分布器，包括固定蓋5和與之通過彈性機構連接的分布器8。所述彈性機構為穿過固定蓋5與分布器連接的螺桿7，該螺桿7上套裝有彈簧4。

實施例2：如圖1、2、3、4所示，一種新型流體分布器，包括固定蓋5和與之通過彈性機構連接的分布器8。所述彈性機構為穿過固定蓋5與分布器連接的螺桿7，該螺桿7上套裝有彈簧4。所述分布器8周側設置折邊。

實施例3：如圖1、2、3、4所示，一種新型流體分布器，包括固定蓋5和與之通過彈性機構連接的分布器8。所述彈性機構為穿過固定蓋5與分布器連接的螺桿7，該螺桿7上套裝有彈簧4。所述螺桿7周側設置凹槽9。所述分布器8周側設置折邊。所述凹槽9為的縱切面為弧形或圓弧或形半圓形。

實施例4：如圖1、2、3、4所示，一種新型流體分布器，包括固定蓋5和與之通過彈性機構連接的分布器8。所述彈性機構為穿過固定蓋5與分布器連接的螺桿7，該螺桿7上套裝有彈簧4。所述螺桿7周側設置凹槽9。所述分布器8周側設置折邊。所述凹槽9為的縱切面為弧形或圓弧或形半圓形。所述分布器8下設置再分布器10。

實施例5：如圖1、2、3、4所示，一種新型流體分布器，包括固定蓋5和與之通過彈性機構連接的分布器8。所述彈性機構為穿過固定蓋5與分布器連接的螺桿7，該螺桿7上套裝有彈簧4。所述螺桿7周側設置凹槽9。所述分布器8周側設置折邊。所述凹槽9為的縱切面為弧形或圓弧或形半圓形。所述分布器8下設置再分布器10。所述固定蓋5通過連接件3固定于發酵罐1罐壁上。所述螺桿7穿過固定蓋5的長度為螺桿總長的1/4-1/3。所述再分布器10固定在發酵罐1罐壁上。

有益效果：1、本實用新型分布器與罐體結合良好，安裝方便，不影響發酵罐的整體結構；2、本實用新型分布器在流體正常流動時通過分布器與再分布器可以更均勻的分布流體、可以減緩流體的流速，從而降低對設備或發酵過程的影響；3、本實用新型分布器，在高濃度發酵醪或者其攜帶雜質堵塞分布器后，會通過壓縮，使分布器下移，從而使螺紋露出來排出發酵醪，排出的發酵醪在流過固定端上沿后通過再分布器均勻流下去；如果上述過程不能減緩堵塞，彈簧進一步壓縮，當超過其總長的1/4-1/3時，分布器上沿會下移到固定端下方，此時發酵醪通過分布器上沿與固定端中間的間距流到再分布器，然后通過再分布器均勻流下去；整個過程始終保持平穩的流體分布，不會對吸附介質造成沖擊。