[實用新型]一種射頻磁控濺射裝置有效
| 申請號： | 201320762395.X | 申請日： | 2013-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN203593782U | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 盧偉賢;游文仁;張忠祥;易敏龍;劉耀鴻 | 申請（專利權）人： | 香港生產力促進局 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人： | 張若華 |
| 地址： | 中國香港九*** | 國省代碼： | 中國香港;81 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 射頻 磁控濺射 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種射頻磁控濺射裝置，其特征在于，包括靶座，所述靶座包括靶座主體，所述靶座主體的上方設置有冷卻盤，所述冷卻盤的上方順次設置有屏蔽罩和靶支撐體，所述靶座主體的中空內部設置有永磁體支撐件和磁體罩，所述磁體罩設置于永磁體支撐件的外部。
2.根據權利要求1所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述磁體罩的下方設置有絕緣罩。
3.根據權利要求2所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述絕緣罩的材質為鐵氟龍。
4.根據權利要求3所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述屏蔽罩與靶支撐體之間設置有第一墊片。
5.根據權利要求4所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述第一墊片為銅墊片。
6.根據權利要求5所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述永磁體支撐件的上方設置有第二墊片，且所述第二墊片處于冷卻盤的下方。
7.根據權利要求6所述的射頻磁控濺射裝置，其特征在于，所述第二墊片為不銹鋼墊片。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于香港生產力促進局，未經香港生產力促進局許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320762395.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
