[實用新型]一種改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320738636.7 | 申請日: | 2013-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN203674174U | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李祥 | 申請(專利權)人: | 浙江鴻禧光伏科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/306 | 分類號: | H01L21/306;H01L21/67 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 314206 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 改善 濕法 刻蝕 機臺 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及晶硅太陽能電池片制造領域,具體地涉及一種改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置。?
背景技術
在晶硅太陽能電池片的制備工藝中,通過在硅片表面制備絨面達到陷光的目的,經過擴散制結,然后去除在擴散背面及邊緣形成的PN結防止短路及去除PSG,最后經過PECVD、絲網印刷及分類檢測完成太陽能電池片的制備過程。目前,利用Rena機臺,采用酸制絨工藝制備絨面時,由于反應過程中會有大量的酸氣揮發(fā),冷凝于蓋板、支撐桿上,聚集形成液滴。因支撐桿是圓柱形,冷凝的酸氣更容易聚集到支撐桿上,積累到一定程度在重力作用下滴落在硅片上,對硅片表面進一步腐蝕以致外觀不良。因此,需要經常擦拭蓋板、支撐桿,影響生產效率;通過加大抽風量可改善,但會影響工藝的穩(wěn)定性,導致過刻、黑邊等問題。?
發(fā)明內容
本實用新型的目的是提供一種改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置,在保證排風量對工藝不產生影響的同時,減少產線停機時間,并減少產線制程中過刻、黑邊等不良制品的產生。?
為了解決上述技術問題,本實用新型采用的技術解決方案是提供一種改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置,包括蓋板及支架,支撐桿和海綿滾輪,所述的蓋板由兩塊傾斜交叉的蓋板組成,每塊蓋板與水平方向夾角θ為30°-45°,所述的支撐桿外圍包裹一層海綿滾輪,所述的蓋板支架位于中間的支撐桿上方。?
本實用新型的有益效果是在保證排風量對工藝不產生影響的同時,減少產線停機時間,并減少產線制程中過刻、黑邊等不良制品的產生。?
附圖說明
圖1原制絨機臺反應槽體頂部的結構圖?
圖2本實用新型提供的改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置的結構圖?
圖中:1表示支撐桿;2表示蓋板支架;3表示蓋板;4表示海綿滾輪。?
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細說明。?
在本具體實施方式中,一種改善濕法刻蝕機臺滴液的裝置包括蓋板及支架,支撐桿和海綿滾輪,蓋板(3)由兩塊傾斜交叉的蓋板組成,每塊蓋板與水平方向夾角θ為30°,支撐桿(1)外圍包裹一層海綿滾輪(4),蓋板支架(2)位于中間的支撐桿上方。本具體實施方式在保證排風量對工藝不產生影響的同時,減少產線停機時間,并減少產線制程中過刻、黑邊等不良制品的產生。?
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





