[實用新型]一種被動調Q皮秒激光器種子光源

有效

• 申請號: 201320738473.2
• 申請日: 2013-11-21
• 公開（公告）號: CN203617539U
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 牛崗;楊林;殷超云
• 申請（專利權）人: 武漢洛芙科技有限公司
• 主分類號: H01S3/08
• 分類號: H01S3/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.?一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，包括：泵浦源、聚焦透鏡、激光介質、可飽和吸收體、激光諧振腔、光纖聚焦準直系統和單模光纖，所述泵浦源用于泵浦激光介質；所述聚焦鏡用于會聚所述泵浦源發出的泵浦光并將其耦合到所述激光介質中；所述可飽和吸收體置于所述激光介質之后，部分吸收激光介質發出的受激輻射，產生激光脈沖輸出；所述激光諧振腔包括第一介質鏡和第二介質鏡，第一介質鏡對泵浦光具有高透過率，對輸出的激光具有高反射率，?第二介質鏡對泵浦光具有高反射率，對輸出的激光具有高透過率，用于形成激光振蕩輸出，所述第一介質鏡、激光介質、可飽和吸收體和第二介質鏡依次緊密貼合形成微片結構。

2.?根據權利要求1所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述第一介質鏡或第二介質鏡的基片上鍍有復合膜，所述復合膜由兩層具有不同折射率的介質膜交替堆疊形成，每一層介質膜反射特定波長的光，每一層介質膜的厚度為所述波長的1/4。

3.?根據權利要求1所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述可飽和吸收體為石墨烯或碳納米管材料可飽和吸收體，厚度為1～5納米。

4.?根據權利要求3所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述石墨烯材料可飽和吸收體中石墨烯材料的層數為1～10層。

5.?根據權利要求1所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述可飽和吸收體采用摻鈷材料的固態介質。

6.?根據權利要求1至4任一項所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述激光介質為Nd：YAG晶體、Gr⁴⁺：YAG、Nd：YVO₄晶體或Er：Yb：glass激光材料。

7.?根據權利要求4所述的一種被動調Q皮秒激光器種子光源，其特征在于，所述光纖聚焦準直系統為非球面透鏡。