[實(shí)用新型]基板位置偏差調(diào)整裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320717797.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203728253U | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龔金金;吳康成;林永富 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | B65H5/08 | 分類號(hào): | B65H5/08;B65H5/14 |
| 代理公司: | 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 付永莉;黃艷 |
| 地址: | 201500 上海市金山區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 位置 偏差 調(diào)整 裝置 | ||
1.一種基板位置偏差調(diào)整裝置,用于對(duì)機(jī)械手所運(yùn)送的基板進(jìn)行調(diào)整,其特征在于,該基板位置偏差調(diào)整裝置設(shè)置于所述機(jī)械手上,以對(duì)由所述機(jī)械手運(yùn)送的基板進(jìn)行位置偏差調(diào)整,使得所述基板在進(jìn)入下一工序之前即完成位置偏差調(diào)整,所述基板位置偏差調(diào)整裝置包括水平部、位于水平部兩側(cè)的兩個(gè)側(cè)部以及沿著機(jī)械手的手臂的縱向延伸的縱向部,所述兩個(gè)側(cè)部中的每一個(gè)側(cè)部均由旋轉(zhuǎn)氣缸和導(dǎo)軌氣缸來進(jìn)行控制,以使所述側(cè)部執(zhí)行上下運(yùn)動(dòng)和水平運(yùn)動(dòng),所述旋轉(zhuǎn)氣缸和所述導(dǎo)軌氣缸整合到所述機(jī)械手的控制部中,通過所述縱向部實(shí)現(xiàn)所述旋轉(zhuǎn)氣缸和所述導(dǎo)軌氣缸與所述側(cè)部的電氣連接,從而實(shí)現(xiàn)控制所述側(cè)部的上下運(yùn)動(dòng)和水平運(yùn)動(dòng)。?
2.如權(quán)利要求1所述的基板位置偏差調(diào)整裝置,其特征在于,所述基板位置偏差調(diào)整裝置設(shè)置于所述機(jī)械手的下方。?
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板位置偏差調(diào)整裝置,其特征在于,所述基板位置偏差調(diào)整裝置包括多個(gè)水平部、分別位于每個(gè)水平部兩側(cè)的兩個(gè)側(cè)部以及沿著所述機(jī)械手的手臂的縱向延伸的縱向部。?
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的基板位置偏差調(diào)整裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)氣缸和所述導(dǎo)軌氣缸分別位于所述水平部的上、下面上。?
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的基板位置偏差調(diào)整裝置,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)氣缸和所述導(dǎo)軌氣缸可以對(duì)所述側(cè)部執(zhí)行反向復(fù)位操作。?
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板位置偏差調(diào)整裝置,其特征在于,所述基板位置偏差調(diào)整裝置呈支架的形式且設(shè)置于所述機(jī)械手的尾部。?
7.一種機(jī)械手,用于傳送基板,其特征在于,該機(jī)械手設(shè)置有基板位置偏差調(diào)整裝置,以對(duì)由所述機(jī)械手運(yùn)送的基板進(jìn)行位置偏差調(diào)整,使得所述基板在進(jìn)入下一工序之前即完成位置偏差調(diào)整,所述基板位置偏差調(diào)整裝置包括水平部、位于水平部兩側(cè)的兩個(gè)側(cè)部以及沿著機(jī)械手的手臂的縱向延伸的縱向部,所述兩個(gè)側(cè)部中的每一個(gè)側(cè)部均由旋轉(zhuǎn)氣缸和導(dǎo)軌氣缸來進(jìn)行控制,以使所述側(cè)部執(zhí)行上下運(yùn)動(dòng)和水平運(yùn)動(dòng)。?
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