[實用新型]一種真空高溫爐加熱室

有效

• 申請號: 201320685710.3
• 申請日: 2013-11-01
• 公開（公告）號: CN203657434U
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 戴煜
• 申請（專利權）人: 湖南頂立科技有限公司
• 主分類號: F27B5/05
• 分類號: F27B5/05;F27B5/06
• 代理公司: 云南派特律師事務所 53110
• 代理人: 岳亞蘇

1.一種真空高溫爐加熱室，包括圓筒狀的鋼制爐殼，所述爐殼內設置有由上保溫屏、側保溫屏、下保溫屏圍成的加熱區，其特征在于，所述爐殼底部固定設置有多個物料支撐平臺，所述物料支撐平臺上設置有杯狀支撐座，所述支撐座內設置有物料支撐柱，所述物料支撐柱貫穿所述下保溫屏并置于所述加熱區中，所述物料支撐柱呈中空狀，且在加熱區外部的物料支撐柱外側面包覆有一層活動保溫屏，所述支撐座內部設置有隔熱部件。

2.根據權利要求1所述的一種真空高溫爐加熱室，其特征在于，所述杯狀支撐座內設置有陶瓷杯墊。

3.根據權利要求1所述的一種真空高溫爐加熱室，其特征在于，所述上保溫屏、下保溫屏、側保溫屏上均設置有若干用于定位加熱器的引出缺口。

4.根據權利要求3所述的一種真空高溫爐加熱室，其特征在于，所述引出缺口中設置有絕緣瓷套。

5.根據權利要求1-4中任意一項所述的一種真空高溫爐加熱室，其特征在于，所述物料支撐柱上方設置有物料支撐橫梁。