[實用新型]一種掩模板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320676061.0
• 申請日: 2013-10-30
• 公開（公告）號: CN203569178U
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發(fā)明（設計）人: 魏志凌;高小平;潘世珎;張煒平
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種掩模板，包括掩模板本體及形成在所述掩模板本體上的蒸鍍孔，所述蒸鍍孔貫穿所述掩模板本體，所述掩模板包括蒸鍍面和ITO面，其特征在于：所述蒸鍍孔在所述ITO面設有凹槽，在所述蒸鍍孔中心軸線所在的截面上，所述蒸鍍面的蒸鍍孔的邊緣線呈碗狀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述蒸鍍面的所述蒸鍍孔的孔壁與所述掩模板本體的板面呈30°～60°夾角。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述ITO面的所述凹槽的側(cè)壁與所述掩模板本體的板面呈60°～90°夾角。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板蒸鍍面的厚度為10～50μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽的深度為2～30μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板的總厚度為12～80μm。