[實用新型]研磨拋光盤靜壓支撐裝置

有效

• 申請號: 201320657281.9
• 申請日: 2013-10-23
• 公開（公告）號: CN203600044U
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 唐丹;王聯;王靜;孫曉曉
• 申請（專利權）人: 無錫元明機械設備技術有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 殷紅梅

1.?一種研磨拋光盤靜壓支撐裝置，包括機架底座（1），其特征是：在所述機架底座（1）上端安裝機架座套（2），在機架座套（2）上端安裝靜壓支撐座（3），在機架座套（2）和靜壓支撐座（3）的中心通孔中分別通過主軸軸承（5）安裝主軸（4），在靜壓支撐座（3）和主軸（4）的上端面設置研磨拋光盤（6），研磨拋光盤（6）與主軸（4）固定；在所述機架座套（2）上分別設置第一進油通道（7-1）和第一回油通道（8-1），在靜壓支撐座（3）上分別設置第二進油通道（7-2）和第二回油通道（8-2），第一進油通道（7-1）和第二進油通道（7-2）連通，第一回油通道（8-1）和第二回油通道（8-2）連通；在所述靜壓支撐座（3）的上端面設置進油槽（9），進油槽（9）與第二進油通道（7-2）連通；在所述靜壓支撐座（3）的上端面圍繞主軸（4）的外側設置回油槽（10），在回油槽（10）中設置固定塊（11），固定塊（11）的外表面與回油槽（11）的內壁之間形成回油腔，該回油腔與第二回油通道（8-2）連通。

2.如權利要求1所述的研磨拋光盤靜壓支撐裝置，其特征是：所述固定塊（11）為中心設有通孔的圓臺狀，固定塊（11）的小端朝向研磨拋光盤（6）一側。

3.如權利要求1所述的研磨拋光盤靜壓支撐裝置，其特征是：在所述靜壓支撐座（3）上端面的邊緣設置回油溝（12）。