[實(shí)用新型]一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320651691.2
• 申請(qǐng)日: 2013-10-22
• 公開（公告）號(hào): CN203545746U
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳學(xué)軍;李靜;陳順記;吳承建;周英壯;李國勇;郭軍臣;劉巖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 內(nèi)蒙古常盛制藥有限公司;濰坊市龍安泰環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/461
• 分類號(hào): C02F1/461
• 代理公司: 河北東尚律師事務(wù)所 13124
• 代理人: 李國聰

1.一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設(shè)備，其包括筒體（4）、出水排氣裝置（1）和進(jìn)水進(jìn)氣裝置（3），其特征在于，出水排氣裝置（1）設(shè)在筒體（4）頂部，進(jìn)水進(jìn)氣裝置（3）設(shè)在筒體（4）底部；所述出水排氣裝置（1）包括環(huán)形溢流堰集水槽（8）、出水口（9）、排氣口（10）與填料補(bǔ)加口（12）；所述環(huán)形溢流堰集水槽（8）設(shè)在筒體（4）內(nèi)；所述出水口（9）設(shè)在筒體（4）外側(cè)，并且其下邊緣與環(huán)形溢流堰集水槽（8）的底部邊緣處于同一水平線上；所述排氣口（10）設(shè)在筒體（4）外側(cè)，并且其下邊緣高于環(huán)形溢流堰集水槽（8）的頂部邊緣；所述填料補(bǔ)加口（12）設(shè)在筒體（4）外頂部；所述進(jìn)水進(jìn)氣裝置（3）包括進(jìn)氣口（13）、進(jìn)水口（14）、空氣分布器（6）、廢水分布器（7）、填料支撐隔板（5）、排空口（11），立柱（15）；所述進(jìn)氣口（13）、進(jìn)水口（14）、排空口（11）均設(shè)在筒體（4）外側(cè)，并且三者在筒體（4）垂直方向的水平高度依次降低；所述空氣分布器（6）連接進(jìn)氣口（13）；所述廢水分布器（7）連接進(jìn)水口（14）；所述填料支撐隔板（5）設(shè)在進(jìn)氣口（13）上部；所述空氣分布器（6）、廢水分布器（7）、填料支撐隔板（5）三者下方設(shè)有立柱（15）。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設(shè)備，其特征在于，所述空氣分布器（6）和廢水分布器（7）的支管形狀為“豐”字型。?

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設(shè)備，其特征在于，所述空氣分布器（6）的各支管正下方均勻設(shè)置曝氣孔（16）。?

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設(shè)備，其特征在于，所述廢水分布器（7）各支管斜向下45°均勻設(shè)置進(jìn)水孔（17）。?