[實用新型]曝光機再次曝光校正裝置

有效

• 申請號: 201320636264.7
• 申請日: 2013-10-16
• 公開（公告）號: CN203535379U
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 蔣恒亮;張永福;鄧志強
• 申請（專利權）人: 郴州恒維電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 郴州大天知識產權事務所(普通合伙) 43212
• 代理人: 徐起堂

1.一種曝光機再次曝光校正裝置，包括曝光平臺（2）和固定有曝光模板的蓋板（1），其特征在于：還包括光標探頭（4）和顯示器（5），所述光標探頭（4）固定于曝光機體上，該光標探頭（4）與顯示器（5）電連接，使固定有曝光模板的蓋板（1）蓋上曝光平臺（2）后光標探頭（4）能讀取曝光模板上的標記、顯示器（5）能顯示光標探頭（4）探測的曝光模板的標記。

2.根據權利要求1所述的曝光機再次曝光校正裝置，其特征在于：所述曝光平臺（2）設有2個相互對稱的對位孔（3），所述光標探頭（4）通過對位孔（3）探測曝光模板的標記。

3.根據權利要求2所述的曝光機再次曝光校正裝置，其特征在于：所述2個相互對稱的對位孔（3）置于曝光平臺的其中一對角。