[實用新型]一種高壓真空滅弧室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320633161.5
• 申請日: 2013-10-12
• 公開（公告）號: CN203521289U
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周鶴銘;劉志遠(yuǎn);林海涌
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江紫光電器有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 臺州市方圓專利事務(wù)所 33107
• 代理人: 蔡正保;林米良

1.一種高壓真空滅弧室，包括玻璃罩（1）、固定在玻璃罩（1）兩端用于形成真空腔室的靜端蓋板（2）和動端蓋板（3），在玻璃罩（1）內(nèi)設(shè)有固定在靜端蓋板（2）上的靜導(dǎo)電桿（4）和滑動連接在動端蓋板（3）上的動導(dǎo)電桿（6），所述的靜導(dǎo)電桿（4）內(nèi)端設(shè)置有靜觸頭（5），動導(dǎo)電桿（6）內(nèi)端設(shè)置有與靜觸頭（5）等面積的動觸頭（7），其特征在于，在所述玻璃罩（1）內(nèi)設(shè)有將靜觸頭（5）和靜導(dǎo)電桿（4）套在內(nèi)的第一靜罩筒（8）和與第一靜罩筒（8）對稱設(shè)置并將動導(dǎo)電桿（6）套在內(nèi)的第一動罩筒（9），在第一靜罩筒（8）和第一動罩筒（9）相對一端的內(nèi)側(cè)面均設(shè)有能夠減少引起電弧的螺旋形翻邊（10），在動觸頭（7）斷開靜觸頭（5）時所述動觸頭（7）能夠移動到第一動罩筒（9）內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，在第一靜罩筒（8）外套設(shè)有第二靜罩筒（11），所述第二靜罩筒（11）一端固連在玻璃罩（1）中部，另一端懸空朝向靜端蓋板（2）并在該端內(nèi)側(cè)面設(shè)置有減少引起電弧的螺旋形翻邊（10），在第一動罩筒（9）外套設(shè)有第二動罩筒（12），所述第二動罩筒（12）一端固連在玻璃罩（1）上中部，另一端懸空朝向動端蓋板（3）并在該端內(nèi)側(cè)面設(shè)置有減少引起電弧的螺旋形翻邊（10）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，在第一靜罩筒（8）外套設(shè)有直徑與第二靜罩筒（11）相同的第三靜罩筒（12），所述第三靜罩筒（12）一端固連在靜端蓋板（2）上，另一端懸空朝向第二靜罩筒（11）并在該端內(nèi)側(cè)面設(shè)置有減少引起電弧的螺旋形翻邊（10）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，在第一動罩筒（9）外套設(shè)有直徑與第二動罩筒（12）相同的第三動罩筒（14），所述第三動罩筒（14）一端固連在動端蓋板（3）上，另一端懸空朝向第二動罩筒（12）并在該端內(nèi)側(cè)面設(shè)置有減少引起電弧的螺旋形翻邊（10）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，在靜觸頭（5）和動觸頭（7）上設(shè)有在動觸頭（7）碰到靜觸頭（5）時調(diào)整動觸頭（7）偏移方向的調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，所述調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在動觸頭（7）中心上的半球狀定位塊（15）和開設(shè)在靜觸頭（5）中心上的圓錐狀凹面（16），半球狀定位塊（15）與圓錐狀凹面（16）相對，所述圓錐狀凹面（16）的最大直徑大于半球狀定位塊（15）的直徑，所述圓錐狀凹面（16）的最小直徑小于半球狀定位塊（15）的直徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，所述調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在動觸頭（7）上的半球狀定位塊（15）和開設(shè)在靜觸頭（5）上的半球狀凹面，所述半球狀凹面的球半徑大于半球狀定位塊（15）的球半徑，半球狀定位塊（15）與半球狀凹面相對。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，所述的動觸頭（7）和靜觸頭（5）均采用雙匝式縱向磁場觸頭，雙匝式縱向磁場觸頭與導(dǎo)電桿連接包括電流線圈（17）和觸頭片，電流線圈（17）設(shè)置在導(dǎo)電桿和觸頭片之間，導(dǎo)電桿、電流線圈（17）和觸頭片按順序串聯(lián)連接，電流線圈（17）采用雙匝線圈，電流線圈（17）的兩端處在軸心位置，制成兩個同心的連接端，其中的前連接端（18）與觸頭片的中心固定連接，后連接端（19）與導(dǎo)電桿固定連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的高壓真空滅弧室，其特征在于，所述觸頭片為圓盤形，中心部分（23）為平面狀圓形且中心部分（23）凸出邊緣（24），中心部分（23）到邊緣（24）為錐狀的傾斜面（25）。