[實用新型]一種用于f-θ光學系統畸變的標定裝置

有效

• 申請號: 201320621505.0
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN203606107U
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 周艷;趙建科;張潔;徐亮;昌明;劉峰;胡丹丹
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G01M11/04
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 倪金榮

1.一種用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述裝置包括依次設置的轉臺、轉臺上的導軌、被標定的光學系統物方的目標發生器、被標定光學系統的像方的像分析器。?

2.根據權利要求1所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述目標發生器包括依次設置在導軌上的光源、準直鏡、濾光片、聚光鏡、星孔板以及目標微縮鏡，所述光源、準直鏡、濾光片、聚光鏡、星孔板以及目標微縮鏡設置在同一光軸上。?

3.根據權利要求2所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述像分析器包括成像物鏡、探測器以及三維移動支架；所述成像物鏡根據一定的成像關系與探測器連接，所述成像物鏡和探測器設置在三維移動支架上。?

4.根據權利要求1或2或3所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述裝置還包括計算單元，所述計算單元包括計算機。?

5.根據權利要求4所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述像分析器和計算機設置在平臺上，所述像分析器的前端設置用于固定f-θ光學系統的專用工裝。?

6.根據權利要求5所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述轉臺和導軌是手動形式或者電動控制。?

7.根據權利要求6所述的用于f-θ光學系統畸變的標定裝置，其特征在于：所述目標發生器外部設置黑箱，所述黑箱是進行發黑處理的金屬箱體或者黑布罩。?