[實用新型]一種外延片蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320620068.0 | 申請日： | 2013-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN203546135U | 公開（公告）日： | 2014-04-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 胡泰祥 | 申請（專利權(quán)）人： | 元茂光電科技（武漢）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/50;H01L21/203 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張大威 |
| 地址： | 430074 湖北省*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 外延 片蒸鍍 裝置 | ||
1.一種外延片蒸鍍裝置，其特征在于，包括承載盤（1）和蒸鍍單元；所述蒸鍍單元包括能被磁鐵吸引的固定塊（2）、磁鐵（3）、不能被磁鐵吸引的蓋子（4）、外延片（5）、能被磁鐵吸引的光罩片（6），所述光罩片（6）上具有蒸鍍孔（61）；所述固定塊固定設(shè)置在所述承載盤上，所述蓋子將所述磁鐵密封在所述固定塊上，所述外延片設(shè)置在所述蓋子與所述光罩片之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述承載盤（1）直徑為535mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述固定塊（2）直徑為57.5mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述磁鐵（3）直徑為50mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述蓋子（4）外徑為57.5mm、蓋子內(nèi)徑為52mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述光罩片（6）直徑為57.2mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的外延片蒸鍍裝置，其特征在于：所述蒸鍍單元為62個。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
