[實(shí)用新型]半導(dǎo)體器件及半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320612975.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203690305U | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·羅伊格-吉塔特;P·莫恩斯;P·范米爾貝克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 半導(dǎo)體元件工業(yè)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 申發(fā)振 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,其特征在于包含:?
限定主表面的半導(dǎo)體基板;?
至少包含關(guān)于主表面沿大體垂直取向延伸的第一導(dǎo)電類型的第一柱和第二導(dǎo)電類型的第二柱的第一區(qū)域,其中,第一導(dǎo)電類型與第二導(dǎo)電類型相反,并且,第一柱被配置為垂直電流路徑;?
與主表面分開并鄰接第一區(qū)域的下部的第一導(dǎo)電類型的第二區(qū)域;?
在主表面與第二區(qū)域之間鄰接第一區(qū)域的第二導(dǎo)電類型的第三區(qū)域;?
第三區(qū)域的一部分與主表面之間的第二導(dǎo)電類型的體區(qū);?
鄰接體區(qū)的第一導(dǎo)電類型的源極區(qū);和?
鄰接體區(qū)和源極區(qū)并被配置為控制溝道區(qū)域的控制電極。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于還包含:處于體區(qū)與第三區(qū)域之間并被配置為鏈接溝道區(qū)域的漏極端與第一區(qū)域的第一導(dǎo)電類型的第四區(qū)域。?
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第三區(qū)域具有小于或等于5.0×1015原子/cm3的摻雜劑濃度。?
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第三區(qū)域具有1.0×1015原子/cm3~3.0×1015原子/cm3的摻雜劑濃度。?
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第一導(dǎo)電類型的柱鄰接第二區(qū)域和第三區(qū)域。?
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第三區(qū)域具有5微米~15微米的厚度。?
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于還包含與源極區(qū)和第三區(qū)域電氣耦合的導(dǎo)電層。?
8.一種半導(dǎo)體器件,其特征在于包含:?
基板;?
覆蓋基板的半導(dǎo)體層,其中,半導(dǎo)體層具有與基板分開的主表面;?
與主表面相鄰并向著基板延伸的垂直取向的電荷平衡區(qū)域;?
與主表面的另一部分相鄰的第一導(dǎo)電類型的體區(qū);?
與主表面分開并處于體區(qū)與基板之間的第一導(dǎo)電類型的第一水平取向的摻雜區(qū),其中,第一水平取向摻雜區(qū)鄰接垂直取向電荷平衡區(qū)域;?
與主表面分開并處于第一水平取向摻雜區(qū)與基板之間的第二導(dǎo)電類型的第二水平取向摻雜區(qū);和?
與體區(qū)和第一水平取向摻雜區(qū)電氣絕緣的柵電極,?
其中:?
半導(dǎo)體器件的晶體管結(jié)構(gòu)包含第一水平取向摻雜區(qū)、體區(qū)和柵電極;?
第二水平取向摻雜區(qū)被配置為使雪崩區(qū)域從柵電極以及從垂直取向電荷平衡結(jié)構(gòu)的上部向半導(dǎo)體層偏移;并且?
垂直取向的電荷平衡結(jié)構(gòu)使晶體管結(jié)構(gòu)和基板相互電連接。?
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第二水平取向摻雜區(qū)具有小于或等于5.0×1015原子/cm3的摻雜劑濃度。?
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第二水平取向摻雜區(qū)具有1.0×1015原子/cm3~3.0×1015原子/cm3的摻雜劑濃度。?
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,第二水平取向摻雜區(qū)具有5微米~15微米的厚度。?
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,柵電極包含溝槽柵電極。?
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,垂直取向電荷平衡區(qū)域包含多個(gè)第一導(dǎo)電類型和第二導(dǎo)電類型柱。?
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于還包含在體區(qū)中形成的源極區(qū)和與源極區(qū)和第二水平取向摻雜區(qū)電氣耦合的導(dǎo)電層。?
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的
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