[實用新型]雙腔室真空制膜設備

有效

• 申請號: 201320606145.7
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN203569182U
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 崔慧敏;張海林;劉國霞;滕玉朋
• 申請（專利權）人: 青島賽瑞達電子裝備股份有限公司
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C23C14/06
• 代理公司: 山東清泰律師事務所 37222
• 代理人: 寧燕

1.一種雙腔室真空制膜設備，其特征在于它包括送料腔室、活動密封機構、工藝腔室、送料裝置，其中送料腔室上設置進出料口，送料腔室與工藝腔室連接，送料腔室與工藝腔室之間設置活動密封機構，送料裝置位于送料腔室和工藝腔室內，送料腔室及工藝腔室上均設置真空機構。

2.根據權利要求1所述的雙腔室真空制膜設備，其特征在于所述活動密封機構包括門板與密封圈，其中門板固定在送料裝置上，門板所在平面與送料腔室截面平行，密封圈固定在送料腔室與工藝腔室結合處。

3.根據權利要求1或2所述的雙腔室真空制膜設備，其特征在于所述送料裝置包括主傳動軸與送料平臺。